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近日，美國(guó)商務(wù)部宣布了一項(xiàng)重大投資計(jì)劃，擬斥資8.25億美元（約合人民幣58.75億元）支持紐約州EUV光刻旗艦研發(fā)站點(diǎn)的建設(shè)。 據(jù)悉，該研發(fā)站點(diǎn)將命名為“EUV加速器”，并選址于紐約州立大學(xué)奧爾巴尼納米技術(shù)中心。該站點(diǎn)將重點(diǎn)推進(jìn)最先進(jìn)的EUV（極紫外）光刻技術(shù)及相關(guān)研發(fā)工作，預(yù)計(jì)將于2025年開始運(yùn)營(yíng)。在運(yùn)營(yíng)初期，站點(diǎn)將引入0.33NA EUV光刻機(jī)，并在次年引入更為先進(jìn)的High NA EUV光刻機(jī)。 美國(guó)商務(wù)部在聲明中表示，此次投資旨在加強(qiáng)美國(guó)在半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位，確保國(guó)家安全和經(jīng)濟(jì)競(jìng)爭(zhēng)力。通過建設(shè)“EUV加速器”研發(fā)站點(diǎn)，美國(guó)將能夠吸引更多的產(chǎn)業(yè)界、學(xué)術(shù)界和政府合作伙伴，共同推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)的創(chuàng)新與發(fā)展。 紐約州州長(zhǎng)對(duì)此表示熱烈歡迎和支持，認(rèn)為這一投資將為紐約州帶來(lái)顯著的經(jīng)濟(jì)效益和就業(yè)機(jī)會(huì)。他強(qiáng)調(diào)，紐約州一直致力于打造全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)和生產(chǎn)基地，此次投資將進(jìn)一步鞏固該州的領(lǐng)先地位，并推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。 |
