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武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱“太紫微公司”）近日推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，成功通過(guò)了嚴(yán)格的半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證。這一突破標(biāo)志著中國(guó)在高端光刻膠領(lǐng)域取得了重要進(jìn)展，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自主可控發(fā)展注入了強(qiáng)勁動(dòng)力。 太紫微公司，這家于2024年5月剛剛成立的企業(yè)，背后有著華中科技大學(xué)武漢光電國(guó)家研究中心團(tuán)隊(duì)的強(qiáng)力支撐。該團(tuán)隊(duì)在電子化學(xué)品領(lǐng)域深耕二十余年，致力于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)的研發(fā)。此次推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，正是團(tuán)隊(duì)多年努力的結(jié)晶。 據(jù)了解，T150 A光刻膠產(chǎn)品對(duì)標(biāo)國(guó)際頭部企業(yè)的主流KrF光刻膠系列，其在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到了120nm，這一指標(biāo)與被業(yè)內(nèi)稱為“妖膠”的國(guó)外同系列產(chǎn)品UV1610相比毫不遜色。更重要的是，T150 A在工藝寬容度、穩(wěn)定性以及堅(jiān)膜后烘留膜率等方面均表現(xiàn)出色，對(duì)后道刻蝕工藝也極為友好。密集圖形經(jīng)過(guò)刻蝕后，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度依然能保持優(yōu)異狀態(tài)，這一特性使其在半導(dǎo)體制造中更具應(yīng)用價(jià)值。 
太紫微公司的企業(yè)負(fù)責(zé)人朱明強(qiáng)教授，同時(shí)也是英國(guó)皇家化學(xué)會(huì)會(huì)員和華中科技大學(xué)的二級(jí)教授，他表示：“從原材料開(kāi)發(fā)起步，最終獲得自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這僅僅是一個(gè)開(kāi)端。團(tuán)隊(duì)深知，要想真正在國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造領(lǐng)域開(kāi)創(chuàng)嶄新局面，不能僅僅滿足于這一項(xiàng)成果。”因此，太紫微公司計(jì)劃繼續(xù)發(fā)力，發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場(chǎng)景下的KrF與ArF光刻膠，以滿足半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)日益多樣化的需求。 此次T150 A光刻膠產(chǎn)品通過(guò)量產(chǎn)驗(yàn)證，不僅填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)在高端光刻膠領(lǐng)域的部分空白，還打破了國(guó)外在該領(lǐng)域的部分技術(shù)壟斷。這對(duì)于提升我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自主可控能力具有重要意義。隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，對(duì)高性能光刻膠的需求日益迫切。T150 A的成功量產(chǎn)，將為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)提供更加可靠、穩(wěn)定的光刻膠選擇，有助于推動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更高水平邁進(jìn)。 |
