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分析解讀世界半導體技術的發展大趨勢

發布時間:2012-4-24 15:08    發布者:nansaudi
關鍵詞: 半導體
IBM半導體研發中心技術開發副總裁PercyGilbert2月8日在“世界半導體東京峰會2012”發表了演講,他說,半導體技術的進步為社會帶來了互聯網的普及等變革,今后還要繼續推進該技術的發展。不過,除了傳統技術之外,器件、制造及材料的技術革新變得不可或缺。同時,業務模式也要革新,IBM作為研發型半導體公司稱“合作”尤其重要,IBM的“共生系統”戰略不僅要聯手半導體廠商,還要與設備廠商、裝置及材料廠商合作,由此來分擔研發投資。
  
  臺積電代表也在會上表示,邏輯電路尖端工藝的發展將繼續受到市場歡迎。公司現行28nm工藝,計劃2012年下半年將使20nm工藝量產化,2014年則將推進到14nm工藝量產化。同時,對“更摩爾”(MoreMoore)微細化以外追求差異化的“超摩爾”(MorethanMoore)的量產器件,也將推進微細化以降低成本。
  
  SIA(美國半導體工業協會)于去年底在韓國首次公布了《2011ITRS》(2011年國際半導體技術發展路線圖),對半導體設計和制造技術到2026年的發展作了預測。SIA總裁BrianToohey說,路線圖的宗旨之一是遵循摩爾定律的發展速度,不斷縮小工藝尺寸、提高性能以滿足消費者的需求。ITRS特別指出,DRAM將加速發展以因應高端服務器、臺式游戲機復雜圖形的進步。廣泛用于數碼相機、平板電腦和手機的Flash閃存近幾年內也將快速發展,2016年將出現3D架構產品。此外,也詳細介紹了連接器、開關、有關器件、材料以及射頻和模擬混合信號技術的未來革新。
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