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來源：大半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 日前，ASML前總裁兼首席技術(shù)官、現(xiàn)任公司顧問Martin van den Brink在imec ITF World的演講中表示：“從長遠(yuǎn)來看，我們需要改進(jìn)光刻系統(tǒng)，因此必須要升級 Hyper-NA。與此同時，我們必須將所有系統(tǒng)的生產(chǎn)率提高到每小時400-500片晶圓”。同時透露，ASML將在2030年左右提供Hyper-NA，達(dá)到0.75NA，以便實(shí)現(xiàn)更高分辨率的圖案化及更小的晶體管特征。 
Imec高級圖案設(shè)計項目總監(jiān)Kurt Ronse表示，這是ASML首次將Hyper-NA EUV加入其技術(shù)路線圖。現(xiàn)階段想要突破0.55NA，需要解決光偏振和光刻膠的挑戰(zhàn)。Ronse 還指出，目前的High-NA應(yīng)該會持續(xù)貫穿從2nm到1.4nm、10埃米甚至7埃米的工藝節(jié)點(diǎn)，此后，Hyper-NA 將開始占據(jù)主導(dǎo)地位。
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