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來源：大半導體產業網 日前，ASML前總裁兼首席技術官、現任公司顧問Martin van den Brink在imec ITF World的演講中表示：“從長遠來看，我們需要改進光刻系統，因此必須要升級 Hyper-NA。與此同時，我們必須將所有系統的生產率提高到每小時400-500片晶圓”。同時透露，ASML將在2030年左右提供Hyper-NA，達到0.75NA，以便實現更高分辨率的圖案化及更小的晶體管特征。 
Imec高級圖案設計項目總監Kurt Ronse表示，這是ASML首次將Hyper-NA EUV加入其技術路線圖。現階段想要突破0.55NA，需要解決光偏振和光刻膠的挑戰。Ronse 還指出，目前的High-NA應該會持續貫穿從2nm到1.4nm、10埃米甚至7埃米的工藝節點，此后，Hyper-NA 將開始占據主導地位。
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