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新思科技攜手臺積公司簡化多裸晶系統復雜性,推出面向臺積公司N3E工藝的“從架構探索到簽核” 統一設計平臺和經驗證的UCIe IP

發布時間:2023-10-31 18:22    發布者:eechina
關鍵詞: 3DFabric , UCIe , N3E
廣泛的多裸晶系統設計解決方案可支持3Dblox 2.0標準及臺積公司3DFabric技術,提高快速異構集成的生產率

新思科技(Synopsys, Inc., 納斯達克股票代碼: SNPS)近日宣布進一步擴大與臺積公司的合作,雙方攜手通過可支持最新3Dblox 2.0標準和臺積公司3DFabric技術的全面解決方案不斷優化多裸晶系統(Multi-Die)設計。新思科技多裸晶系統解決方案包括 “從架構探索到簽核”統一設計平臺3DIC Compiler,可提供行業領先的設計效率,來實現芯片的容量和性能要求。此外,新思科技 UCIe IP也已在臺積公司領先的N3E先進工藝上取得了首次通過硅片的成功,實現die-to-die高速無縫互連。


圖:新思科技UCIe PHY IP在臺積公司N3E工藝上首次通過硅片的成功,展示了出充足的鏈路裕量

臺積公司設計基礎設施管理部負責人Dan Kochpatcharin表示:“臺積公司長期與新思科緊密合作,為芯片開發者提供差異化的解決方案,幫助他們解決從早期架構到制造過程中面臨的高度復雜挑戰。我們與新思科技的長期合作,讓我們的共同客戶能夠采針對性能和功耗效率優化的解決方案,以應對高性能計算、數據中心和汽車應用領域的多裸晶系統設計要求!

新思科技EDA事業部戰略與產品管理副總裁Sanjay Bali表示:“我們與臺積公司強強聯合,為多裸晶系統提供了全面、可擴展的解決方案,實現了前所未有的芯片性能和設計效率。采用3Dblox 2.0等通用標準在統一設計平臺上進行多裸晶系統設計的架構探索、分析和簽核,并結合在臺積公司N3E工藝上已實現首次通過硅片成功的新思科技 UCIe PHY IP,客戶能夠進一步加速從早期架構探索到制造的系統設計全流程。”

新思科技3DIC Compiler設計平臺已通過臺積公司認證,可在統一的裸片/封裝探索、協同設計和分析平臺上使用3Dblox 2.0標準和3DFabric技術進行全棧設計。新思科技集成系統分析功能可與3Dblox 2.0系統原型設計相結合,協同優化熱和電源完整性,有助于確保設計可行性。新思科技和Ansys持續合作,將新思科技 3DIC Compiler和Ansys多物理分析技術相集成,提供系統級效果的簽核準確性。新思科技3DIC Compiler還可與新思科技測試產品互操作,以確保批量測試和質量。

新思科技UCIe PHY IP已在臺積公司 N3E工藝上實現首次通過硅片的成功,并獲多家全球領先企業采用,能夠幫助開發者高效地將die-to-die互聯的業界標準集成到他們的多裸晶系統中。結果顯示,該IP在16Gbps時可實現行業領先的功耗效率和性能,并可擴展至24Gbps,同時具有強大的鏈路裕量。新思科技的完整UCIe Compiler、PHY和驗證IP解決方案目前已支持標準和先進封裝,提供了測試、修復和監測功能,即使在以確保多裸晶系統在現場操作中的可靠性。此外,新思科技還提供了面向HBM3技術的完整IP解決方案,以滿足Multi-Die系統的高內存帶寬需求。新思科技IP產品與新思科技3DIC Compiler的組合通過自動化布局布線、中介層研究和信號完整性分析,支持3Dblox 2.0 die-to-die可行性研究,從而提高生產力并降低IP集成風險。


上市情況
·      新思科技面向臺積公司N3E工藝的UCIe PHY IP3DIC Compiler現已上市。
·       新思科技面向臺積公司先進工藝的 HBM3 IP現已上市。
更多資源點擊
·       網絡資源: 新思科技 Multi-Die系統解決方案
·       新思科技行業洞察報告: Multi-Die系統將多快改變半導體設計?
·       線上研討會: Multi-Die系統的成功之路

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