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來(lái)源: IT之家 據(jù)俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機(jī)構(gòu)公文，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所(IPF RAS) 正在開發(fā)俄羅斯首套半導(dǎo)體光刻設(shè)備，并對(duì)外夸下海口：這套光刻機(jī)能夠使用 7nm 生產(chǎn)芯片，可于 2028 年全面投產(chǎn)。 據(jù)介紹，他們計(jì)劃在六年內(nèi)制作出光刻機(jī)的工業(yè)原型，首先要在2024 年開發(fā)一臺(tái) alpha 機(jī)器。這一階段的重點(diǎn)不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性。 然后，到 2026 年，alpha 應(yīng)該被 Beta 所取代。屆時(shí)所有系統(tǒng)都將得到改進(jìn)和優(yōu)化，分辨率也將得到提升，生產(chǎn)力也將提高，許多操作將實(shí)現(xiàn)機(jī)械自動(dòng)化。這一階段重要的是要將其集成到實(shí)際的技術(shù)流程中，并通過(guò)“拉起”適合其他生產(chǎn)階段的設(shè)備對(duì)其進(jìn)行調(diào)試。 第三步也就是最后一步，將為光刻機(jī)帶來(lái)更強(qiáng)的光源、改進(jìn)的定位和饋送系統(tǒng)，并使得這一套光刻系統(tǒng)能夠快速準(zhǔn)確地工作。 IT之家曾報(bào)道，俄羅斯目前已經(jīng)可以生產(chǎn) 65nm 制程的芯片，該國(guó)此前宣布了一項(xiàng)國(guó)家計(jì)劃，希望在 2030 年開發(fā) 28nm 制程，希望靠著對(duì)外國(guó)芯片進(jìn)行逆向工程，并培養(yǎng)當(dāng)?shù)匕雽?dǎo)體人才。 俄羅斯科學(xué)院納米結(jié)構(gòu)研究所副所長(zhǎng)表示，全球光刻機(jī)領(lǐng)導(dǎo)者 ASML 近 20 年來(lái)一直致力于 EUV 曝光機(jī)，目標(biāo)是讓世界頂尖半導(dǎo)體廠商保持極高的生產(chǎn)效率。但俄羅斯并不需要，只要根據(jù)俄羅斯國(guó)內(nèi)的需求向前推進(jìn)即可。 從其他外媒的評(píng)價(jià)來(lái)看，俄羅斯的想法似乎太過(guò)天真，畢竟想在 6 年內(nèi)僅憑自己研發(fā)出可媲美 ASML 十年積淀的光刻技術(shù)實(shí)在是有點(diǎn)難以令人相信，且晶圓廠并非光靠光刻機(jī)就可生產(chǎn)出芯片，還需要許多外圍設(shè)備，而俄羅斯并不滿足獨(dú)立生產(chǎn)這些設(shè)備的條件。 值得一提的是，下諾夫哥羅德代表團(tuán)還向大家展示了未來(lái)光刻設(shè)備的演示樣品。這套系統(tǒng)基于下諾夫哥羅德的 IAP RAS 開發(fā)、制造和安裝。不過(guò)他們自己也提到，這甚至不是設(shè)備原型，而是“原型的原型”。 這套演示設(shè)備雖然不能解決實(shí)際的工業(yè)問(wèn)題，但它可以讓科學(xué)家有機(jī)會(huì)驗(yàn)證關(guān)鍵技術(shù)的可行性，并測(cè)試進(jìn)一步工作所需的其他關(guān)鍵假設(shè)。 |
