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來源: IT之家 據俄羅斯下諾夫哥羅德策略發展機構公文，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所(IPF RAS) 正在開發俄羅斯首套半導體光刻設備，并對外夸下海口：這套光刻機能夠使用 7nm 生產芯片，可于 2028 年全面投產。 據介紹，他們計劃在六年內制作出光刻機的工業原型，首先要在2024 年開發一臺 alpha 機器。這一階段的重點不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統的全面性。 然后，到 2026 年，alpha 應該被 Beta 所取代。屆時所有系統都將得到改進和優化，分辨率也將得到提升，生產力也將提高，許多操作將實現機械自動化。這一階段重要的是要將其集成到實際的技術流程中，并通過“拉起”適合其他生產階段的設備對其進行調試。 第三步也就是最后一步，將為光刻機帶來更強的光源、改進的定位和饋送系統，并使得這一套光刻系統能夠快速準確地工作。 IT之家曾報道，俄羅斯目前已經可以生產 65nm 制程的芯片，該國此前宣布了一項國家計劃，希望在 2030 年開發 28nm 制程，希望靠著對外國芯片進行逆向工程，并培養當地半導體人才。 俄羅斯科學院納米結構研究所副所長表示，全球光刻機領導者 ASML 近 20 年來一直致力于 EUV 曝光機，目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產效率。但俄羅斯并不需要，只要根據俄羅斯國內的需求向前推進即可。 從其他外媒的評價來看，俄羅斯的想法似乎太過天真，畢竟想在 6 年內僅憑自己研發出可媲美 ASML 十年積淀的光刻技術實在是有點難以令人相信，且晶圓廠并非光靠光刻機就可生產出芯片，還需要許多外圍設備，而俄羅斯并不滿足獨立生產這些設備的條件。 值得一提的是，下諾夫哥羅德代表團還向大家展示了未來光刻設備的演示樣品。這套系統基于下諾夫哥羅德的 IAP RAS 開發、制造和安裝。不過他們自己也提到，這甚至不是設備原型，而是“原型的原型”。 這套演示設備雖然不能解決實際的工業問題，但它可以讓科學家有機會驗證關鍵技術的可行性，并測試進一步工作所需的其他關鍵假設。 |
