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來源：快科技 除了硅基芯片之外，光子芯片也是未來的一大重點，其原理跟硅芯片不同，運算速度可提升1000倍以上，而且不依賴先進的光刻機，比如EUV光刻機，因此是各國爭相發展的新一代信息科技。 來自《北京日報》的消息，記者從中科鑫通獲悉，國內首條“多材料、跨尺寸”的光子芯片生產線已在籌備，預計將于2023年在京建成，可滿足通信、數據中心、激光雷達、微波光子、醫療檢測等領域需求，有望填補我國在光子芯片晶圓代工領域的空白。 據悉，光子芯片是光電子器件的核心組成部分，與集成電路芯片相比存在多處不同。例如： 從性能而言，光子芯片的計算速度較電子芯片快約1000倍，且功耗更低。 從材料而言，InP、GaAS等二代化合物半導體是光子芯片更為常用的材料，而集成電路一般采用硅片。 從制備而言，光子芯片的制備流程與集成電路芯片存在一定相似性，但側重點在于外延設計與制備環節，而非光刻環節。 民生證券指出，這也決定了光子芯片行業中，IDM模式是主流，有別于標準化程度高、行業分工明確的集成電路芯片。 值得一提的是，相較于電子芯片，光子芯片對結構的要求較低，一般是百納米級，因此降低了對先進工藝的依賴。中科鑫通總裁隋軍也表示，光子芯片使用我國已相對成熟的原材料及設備就能生產，而不像電子芯片一樣，必須使用EUV等極高端光刻機。 |
