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近日，ASML新任CEO傅恪禮（Christophe Fouquet）在SPIE大會上宣布了一個令人振奮的消息：兩臺High NA EUV光刻機（單臺設備售價約為3.5億美元）已經在英特爾成功安裝完成。 High NA EUV光刻機作為目前全球最先進、最昂貴的光刻設備，其安裝完成代表著更高分辨率的光刻能力，能夠滿足停滯不前的摩爾定律所帶來的挑戰。傅恪禮在演講中表示，High NA EUV光刻機不太可能像最初的EUV光刻機那樣出現延遲，因為這款設備更像是EUV光刻機的“升級款”，而不是一個全新的產品。這一預測無疑為業界注入了更多信心。 英特爾光刻總監馬克·菲利普斯（Mark Phillips）在大會上透露，他們在波特蘭工廠已經完成了兩臺High NA光刻系統的安裝。他還強調，由于已經有了首臺安裝的經驗，第二臺系統的安裝效率比首臺更快，這表明公司在相關技術方面的經驗積累得到了顯著回報。此外，菲利普斯還透露，High NA系統所需的所有基礎設施已經到位并開始運行，相關光刻掩模檢測也已按計劃開始。 據了解，High NA EUV光刻機的成功安裝對英特爾來說意義重大。英特爾計劃在2025年年底開始使用這一系統進行生產，目標插入點是Intel 14A工藝（預計2026~2027年量產）。這將有助于英特爾在半導體市場上保持領先地位，并進一步提升其在高端芯片制造方面的競爭力。 值得一提的是，ASML在與客戶合作方面也展現了極高的靈活性和效率。傅恪禮在演講中提到了組裝掃描儀子組件的新方法，即直接在客戶工廠安裝，無需經歷拆卸及再組裝的過程。這將大大節省ASML與客戶之間的時間和成本，有助于加快High NA EUV光刻機的推出和交付。 然而，并非所有客戶都能享受到ASML的優惠待遇。據報道，臺積電在引入High NA EUV光刻機時獲得了較低的報價，這主要是因為臺積電是ASML的超級VIP客戶，擁有絕對的市場占有率優勢和話語權。ASML為了全力協助臺積電進機、調校與技術支援等，加速上線時間點，給出了很大讓步。 |
