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近日，新思科技與中國科學院微電子研究所強強聯(lián)手，正式組建“EUV光刻仿真聯(lián)合實驗室”并舉行揭牌儀式。雙方聯(lián)合宣布將在北京合作共建國際一流、國內領先的聯(lián)合實驗室，共同合作開發(fā)基于EUV的光刻仿真及應用，致力提高中國EUV研發(fā)能力并共同培養(yǎng)該領域尖端人才。該聯(lián)合實驗室得到了北京市科學技術委員會國際科技合作專項的支持。 中科院微電子所所長葉甜春、中科院微電子所科技處處長李平、中科院微電子所計算光刻研發(fā)中心主任韋亞一、新思科技半導體事業(yè)部全球總經理柯復華、新思科技全球資深副總裁暨亞太總裁林榮堅、新思科技中國副總經理陳志昌、新思科技中國區(qū)半導體事業(yè)部銷售總監(jiān)肖長青等出席揭牌儀式。 中科院微電子所所長葉甜春說，“早從2003年開始，作為第一家合作單位，新思科技與中科院微電子所成立了EDA研究中心。15年來，我們不斷深化合作，目前科學院10多個研究所，20多個課題組都使用新思科技的解決方案從事科研工作。此次EUV光刻仿真聯(lián)合實驗室的成立，開啟了新的合作點，將共同提高中國EUV研發(fā)能力。" 新思科技半導體事業(yè)部兼全球總經理柯復華表示，“集成電路產業(yè)在中國蓬勃發(fā)展，正迅速接近國際水平，國內第一臺EUV也即將于2019年投入使用，預計對于EUV的光刻仿真及應用的需求將變得越來越迫切。為更好地服務于這個迅速成長的中國市場，新思科技一直努力深化提高在中國集成電路產業(yè)的參與度。我們非常高興此次能夠和國內領先的微電子研究所共建EUV光刻仿真聯(lián)合實驗室，使我們的產品和服務更加貼近國內芯片制造商的迫切需要，共同提高中國集成電路在EUV方面的應用水平�！� 新思科技是目前在業(yè)界唯一具有從芯片設計、工藝研發(fā)到半導體生產良率提升全流程解決方案的軟件提供商。在先進的極紫外（EUV）光刻領域，新思科技同樣擁有廣泛的研發(fā)和量產經驗。 未來，新思科技將持續(xù)并加強產學研合作，助力培養(yǎng)更多更高質量的EUV領域尖端人才并不斷堅持技術創(chuàng)新，推動中國集成電路產業(yè)的發(fā)展。 |
