佳能、尼康、ASML參戰？國內晶圓產業戰役集結號吹響！

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“預計在未來的5年內，國內將有超過10家以上的晶圓廠擴產。”有業內人士透露，對于老牌的晶圓代工企業—臺積電，國內晶圓廠客戶則采取緊盯的設備采購戰術策略。

據悉，國內客戶計劃采購臺積電先進制程產線，如引進其新世代7/10納米制程設備，推出類似臺積電的高良率、快交期的優質服務（TSMC Like），以率先搶占市場份額。而臺積電的舊世代設備，也是國內客戶爭取的對象。

該人士強調，這樣戰術策略，確保了國內客戶在引起臺積電新世代設備失敗后，也能爭取到舊世代設備的訂單。

臺積電新世代7/10納米制程備受矚目

鑒于國內半導體供應鏈市場過于依賴臺積電，所以TSMC Like（臺積電高良率、快交期的優質服務）以及擴展至設備采購、材料、設計服務和IP等領域，自然成為客戶爭相購入的對象。如果國內客戶（設備供應商）能搶下臺積電新世代7/10納米制程訂單，將有助于爭取到更多設備采購客戶的訂單，未來的業績報表也是相當可觀的。

臺積電掌門人張忠謀董事長表示，2016年下半年的半導體市場值得期待，目前對于7/10納米線程的研發和裝機也在有條不紊地進行中。對于頗受矚目的7/10納米線程，張董事長則透露，其先進程度超乎預期。與此同時，臺積電也開始對晶圓廠生產自動化進行布局。

佳能、尼康、ASML參戰

相對于臺積電的一枝獨秀，其他晶圓設備廠商也在暗地里摩拳擦掌，其中就有佳能（canon）的納米壓印（NIL）技術、尼康(Nikon)的i-Line與KrF等二種曝光設備以及艾斯摩爾(ASML)的12寸晶圓與雙重曝光(Twinscan)設備。

佳能、尼康、艾斯摩爾ASML參戰的背景除了臺積電的一路領先之外，還有自身設備技術的落后。要知道，自1980年以來，尼康推出的曝光裝置連續多年占領80%以上的市場份額（2004年ASML的雙重曝光設備慢慢縮短競爭差距）；而佳能更是在試用ArF浸潤裝置技術后，專注于i-Line與KrF等二種曝光設備的舊技術上。

為了重新搶占市場，佳能和艾斯摩爾將沖洗投入到ArF浸潤設備、極紫外光(EUV)技術，18寸晶圓上。尼康則改進了ArF浸潤裝置的18寸晶圓技術，加速納米壓印技術發展。2015年，佳能率先宣傳成功掌握11納米線路的納米壓印技術。

而這場無硝煙的戰爭，才剛剛開始。

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