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格羅方德(GLOBAL FOUNDRIES)推出業內首個22nm FD-SOI工藝平臺

發布時間:2015-7-14 14:21    發布者:eechina
關鍵詞: 22FDX , 個22nm , FD-SOI
22FDX可為物聯網、主流移動設備、RF連接和網絡市場提供最佳的性能、功耗和成本組合

格羅方德半導體(GLOBAL FOUNDRIES)今日發布一種全新的半導體工藝,以滿足新一代聯網設備的超低功耗要求。“22FDX”平臺提供的性能和功耗媲美FinFET,而成本則與28nm平面晶體管工藝相當,為迅速發展的移動、物聯網、RF連接和網絡市場提供了一個最佳解決方案。

雖然某些設備對三維FinFet晶體管的終極性能有要求,但大多數無線設備需要在性能、功耗和成本之間實現更好的平衡。22FDX 采用業內首個22nm二維全耗盡平面晶體管技術(FD-SOI)工藝,為成本敏感型應用提供了一條最佳途徑。憑借業內最低的0.4伏工作電壓,該平臺實現了超低動態功耗、更低的熱效應和更為精巧的終端產品規格。該平臺提供的芯片尺寸比28nm工藝小20%,掩膜少10%,而且其浸沒式光刻層比foundry FinFET工藝少近50%,為聯網設備在性能、功耗和成本方面實現了最佳組合點。

格羅方德半導體首席執行官Sanjay Jha表示:“22FDX平臺能夠讓我們的客戶在性能、功耗和成本之間實現最佳平衡的差異化產品。該平臺在業內率先提供針對晶體管特性的實時系統軟件控制功能:系統設計人員能夠動態平衡功耗、性能和漏電。此外,針對聯網應用中的射頻和模擬集成,該平臺可提供最佳的擴展性和最高的能效。”

22FDX采用了格羅方德公司位于德國德累斯頓的最先進的300mm生產線上的量產28nm平臺。該工藝建立在近20年對歐洲最大的半導體晶圓廠的持續投資之上,掀開了“薩克森硅谷”發展史上的一個新篇章。格羅方德半導體在德累斯頓為22FDX平臺投入了2.5億美元,用于技術研發和啟動22FDX的生產,從而將公司自2009年以來對Fab 1的總投資增至超過50億美元。公司還將加大投資提高生產力以滿足客戶需求。格羅方德半導體正與多家歐洲領先的研發和行業機構開展合作,以便為22FDX建設一個強大的生態系統,縮短產品上市時間,并為其制定一個全面的路線圖。

格羅方德半導體的22FDX平臺實現了用軟件控制晶體管特性,能夠實時平衡靜態功耗、動態功耗和性能。22FDX平臺由一系列面向不同應用的差異化產品構成:

•    22FD-ulp:對于主流低成本智能手機市場,基礎版超低功耗產品提供了FinFET的替代方案。與0.9伏的28nm HKMG相比,22FX-ulp通過采用體偏壓技術,將功耗效率提升70%以上,提供了可媲美FinFET的功耗和性能。對于某些物聯網和消費類應用,該平臺在優化后可工作于0.4V的電壓,在功耗效率上比28nm HKMG提升了90%。
•    22FD-uhp:對于集成模擬的聯網應用,22FD-uhp產品在優化后,可實現與FinFET相同的超高性能,同時最大程度減少能耗。22FD-uhp定制化功能包括正向體偏壓、應用優化的金屬堆棧,以及支持0.95V的加壓。
•    22FD-ull:面向可穿戴和物聯網市場的超低漏電產品,具備與22FX-ulp相同的低功耗能力,同時又將漏電電流降至1pa/um。較低的運行功耗、超低漏電和靈活的體偏壓技術,這一組合使能耗大幅減少,從而為新型電池供電型可穿戴設備創造了條件。
•    22FD-rfa:射頻模擬產品,可提高數據速率,減省50%的功耗,并降低系統成本,以滿足LTE-A蜂窩收發器、高階MIMO WiFi整合型芯片、毫米波雷達等大容量RF應用的嚴格要求。RF活動設備后門功能可減少或消除RF信號路徑上的復雜補償電路,讓RF設計人員能夠更好地發揮設備內在的Ft性能。

格羅方德半導體一直與主要客戶和生態系統伙伴開展密切合作,研發更好的設計方法和一整套基本和復雜的知識產權(IP)。公司現提供設計入門套件和早期版本的工藝設計套件(PDK),并將于2016下半年啟動風險生產。

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