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來源：財聯(lián)社 10月13日電，日本佳能公司10 月13日宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，該設(shè)備執(zhí)行電路圖案轉(zhuǎn)移，這是最重要的半導(dǎo)體制造工藝。 據(jù)佳能介紹，傳統(tǒng)的光刻設(shè)備通過將電路圖案投射到涂有抗蝕劑的晶圓上，而新產(chǎn)品通過在晶圓上的抗蝕劑上壓印有電路圖案的掩模來實現(xiàn)這一點，就像郵票一樣。由于其電路圖案轉(zhuǎn)移過程不經(jīng)過光學(xué)機(jī)構(gòu)，因此可以在晶圓上忠實地再現(xiàn)掩模上的精細(xì)電路圖案。 |
