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真空濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術(shù)，濺射工藝是一種在靶材表面用離子轟擊靶材的技術(shù)。金屬膜或涂層通過蒸發(fā)、濺射和隨后在真空環(huán)境中冷凝而涂覆在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體和塑料部件上。 具體來講就是把惰性氣體(例如氬氣)填充到真空室中，并且通過使用高電壓，產(chǎn)生輝光放電以將離子加速到靶材料的表面。氬離子從表面轟擊(濺射)靶材，沉積在靶材前面的工件上。通常，其他氣體，如氮?dú)夂鸵胰玻枰c濺射的靶材料反應(yīng)以形成化合物膜。 濺射技術(shù)可以制備多種涂層，在裝飾涂層(如Ti、Cr、Zr、碳氮化物)上有很多優(yōu)勢(shì)。由于制備的涂層非常光滑，這一優(yōu)勢(shì)使得濺射技術(shù)廣泛應(yīng)用于汽車市場(chǎng)的摩擦學(xué)領(lǐng)域。高能離子轟擊靶，提取原子并將其轉(zhuǎn)化為氣體，利用磁控濺射技術(shù)，可以濺射大量的材料。 
真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于各行各業(yè)，如家具、餐具、裝飾品、五金、電子產(chǎn)品、玻璃、軍工產(chǎn)品等。所以不同領(lǐng)域的電鍍產(chǎn)品需要不同的效果，所以采用不同的電鍍工藝。 真空鍍膜機(jī)要想鍍出好的膜，必須保證很多因素都處于正常狀態(tài)，比如真空鍍膜、基片與靶材的距離、蒸發(fā)溫度、基片溫度、殘余氣壓等。如果某個(gè)因素出現(xiàn)偏差，就會(huì)影響真空鍍膜機(jī)沉積薄膜的性能。 另外，真空鍍膜機(jī)為了達(dá)到理想的真空度，必須配備真空泵系統(tǒng)。因?yàn)殄兡C(jī)需要在高真空環(huán)境下工作，真空度的好壞直接影響鍍膜的品質(zhì)。所以擴(kuò)散泵是真空鍍膜機(jī)不可缺少的泵送部件之一，對(duì)于維護(hù)真空鍍膜機(jī)泵送系統(tǒng)的擴(kuò)散泵使機(jī)器運(yùn)行在最佳狀態(tài)是必不可少的。
在真空鍍膜機(jī)的運(yùn)行過程中，雖然需要維護(hù)擴(kuò)散泵，但是真空鍍膜機(jī)是由很多部件組成的，其中一個(gè)部件的故障會(huì)直接影響真空鍍膜機(jī)的正常運(yùn)行。擴(kuò)散泵的維護(hù)至關(guān)重要，其他部件的維護(hù)也是如此。 真空鍍膜機(jī)真空度檢測(cè)可以使用真空計(jì)，如工采網(wǎng)代理的瑞士Neroxis 熱導(dǎo)式氣體傳感器 微型皮拉尼真空計(jì) 壓力計(jì) - MTCS2300系列，采用鎳鉑電阻MEMS技術(shù)， 將一個(gè)大微機(jī)械低應(yīng)力氮化硅膜、兩個(gè)加熱用薄膜電阻以及體硅上的兩個(gè)補(bǔ)償用參考電阻，集成在微型封裝中。 |
