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Synopsys宣布，Synopsys Design Platform已通過全球領先半導體技術企業三星電子的工藝認證，支持三星代工部門的8nm LPP（低功耗+）工藝。Synopsys Design Platform可以為8LPP工藝的多次圖形曝光光刻技術和全顏色感知變化技術，提供完整的全流程支持。Synopsys的SiliconSmart庫表征工具是開發認證過程和參考流程所需基礎IP的關鍵。認證過程還包括一套與Synopsys Lynx設計系統兼容的可擴展參考流程，流程包含自動化腳本和設計最佳實踐案例。用戶可以通過三星先進晶圓代工生態系統（SAFE）計劃獲得該參考流程。 三星電子代工業務營銷副總裁Ryan Lee表示：“在行業切換到EUV（極紫外）光刻技術之前，我們的8LPP工藝可以提供最具競爭力的工藝優勢。Synopsys一直是我們在新工藝節點研發和賦能方面首選的合作供應商。此次將8LPP在性能、功耗和邏輯門密度方面的優勢，與Synopsys Design Platform的高質量結果和時間優勢相結合，可以使我們的共同客戶設計出滿足高性能、低功耗應用的最具競爭力的8LPP片上系統（SoC）產品。” Synopsys設計事業群營銷和業務開發副總裁Michael Jackson表示：“行業領先的客戶已經部署經硅驗證的Synopsys Design Platform去設計和生產速度更快、功耗更低的8LPP芯片。我們的參考設計流程通過三星 SAFE計劃得到廣泛應用，讓設計人員可以快速、安心地通過Synopsys Design Platform切換到三星的8LPP工藝，充分利用8LPP更窄的金屬間距所帶來的結果質量優勢。” 基于Armv8-A 架構的64位Arm Cortex-A53處理器，可以對結果質量（QoR）進行優化和流程認證。Synopsys Design Platform 8LPP參考流程的關鍵工具和功能包括： • IC Compiler II布局和布線：多次圖形曝光和顏色感知的物理實現流程，具有自動化電源及接地（PG）綜合與設計內置的電壓降感知改進。 • Design Compiler Graphical RTL綜合：具有布線擁塞改善和物理引導功能，與IC Compiler II密切關聯。 • DFTMAX和TetraMAX II測試：基于FinFET、單元感知，以及基于時序裕量的在速轉換測試，可獲得更高的測試質量。 • Formality 形式驗證：基于UPF的等價性檢查，狀態轉換驗證。 • IC Validator signoff物理驗證：高性能的DRC signoff 、LVS感知的短路查找器、signoff 填充、模式匹配，以及獨特的設計內置（In-Design）驗證，可以在IC Compiler II中自動修復DRC，以及實現準確感知時序的金屬填充。 • PrimeTime時序signoff: 具有模式合并、采用先進波形傳播（AWP）的超低電壓時序signoff、參量化片上變化（POCV）分析和感知布局規則的工程變更指令（ECO）指導等功能。 • StarRC提取：多次圖形曝光，全顏色感知變化和3D FinFET建模。 三星 SAFE計劃現在已可提供與Synopsys的Lynx設計系統兼容的經認證的可擴展參考流程。Lynx設計系統是一個全芯片設計環境，包括創新的自動化和報告功能，可幫助設計人員實施和監控其設計。它提供了一個生產級RTL-to-GDSII流程，可簡化和自動化完成許多關鍵的設計實現和驗證任務，使工程師能夠專注于實現性能和設計目標。三星 SAFE計劃提供了三星代工經廣泛測試的工藝設計工具包（PDK）和參考流程（包含設計方法）。 |
