美國放寬刻蝕設備對華出口 65nm放行

發(fā)布時間：2010-10-9 18:46 發(fā)布者：嵌入式公社

關鍵詞：出口

在SEMI及會員公司的共同努力下，經(jīng)過9個月的等待，美國聯(lián)邦政府正式實施放寬刻蝕設備的出口條件，原來180nm的技術審核指標被正式放寬到了65nm。

來源：SEMI

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網(wǎng)友評論

yyfsyyy 發(fā)表于 2010-10-13 09:28:32

是個好消息

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