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1．刷板 對(duì)前工序提供的材料（即生產(chǎn)板）要求板面無(wú)嚴(yán)重的的氧化、油污、折皺。我們采用酸洗（5%硫酸）噴淋，除去有機(jī)雜質(zhì)和無(wú)機(jī)污物，然后使用500目的尼龍刷輥磨刷。刷板后要達(dá)到：銅表面無(wú)氧化、銅表面被均勻粗化、銅表面具有嚴(yán)格的平整性，還要銅表面無(wú)水跡。這種效果增強(qiáng)了濕膜與銅箔表面的結(jié)合力，以滿足后續(xù)工序工藝的要求。刷板后的銅箔表面狀態(tài)直接影響PCB的成品率。 2．絲網(wǎng)印刷 為達(dá)到需要厚度的濕膜，絲印前要選絲網(wǎng)，要注意絲網(wǎng)的厚度、目數(shù)（即單位長(zhǎng)度上的線數(shù)）。膜厚同絲網(wǎng)的透墨量有關(guān)，油墨的理論透墨量（Uth）為： Uth=Dw2 \（w+d）2 ×1000 （ D ─ 網(wǎng)沙厚度 d ─ 線徑 w ─ 開口寬） 實(shí)際透墨量還與濕膜粘度、刮膠壓力、刮膠移動(dòng)速度有關(guān)，為達(dá)到均勻覆蓋，刮刀口要軔磨好。印后板面膜厚度要控制在15-25μm之間，膜過厚容易產(chǎn)生曝光不足、顯影不好，預(yù)烘難控制，易造成戰(zhàn)地片，操作困難。膜過薄易產(chǎn)生曝光過度，耐蝕性好，電鍍時(shí)的絕緣性差，去膜也困難。制造0.15μm以下的精細(xì)線條，膜后應(yīng)小于20μm. 濕膜在用前要調(diào)好粘度，并充分?jǐn)嚢杈鶆颍o止十五分鐘，絲印房間的環(huán)境要保持潔凈，以免外來(lái)雜物落在面上影響板子的合格率，溫度要控制在20℃左右，相對(duì)濕度要在50%上下。 3．預(yù)烘 預(yù)烘參數(shù)使用第一面在80-100℃烘7-10分鐘，第二面也在80-100℃烘10-20分鐘。預(yù)烘主要是蒸發(fā)油墨中的溶劑，預(yù)烘關(guān)系到濕膜應(yīng)用的成敗。預(yù)烘不足，在貯存、搬運(yùn)過程中易粘板，曝光時(shí)易粘底片，最終造成斷線或短路；預(yù)烘過度，易顯影不凈，線條邊緣由鋸齒狀。預(yù)烘直接影響到PCB的質(zhì)量，所以在平時(shí)的操作重要經(jīng)常測(cè)試濕膜厚度，并根據(jù)環(huán)境溫度的變化調(diào)節(jié)烘箱的參數(shù)，經(jīng)常檢查烘箱的鼓風(fēng)和循環(huán)系統(tǒng)是否良好。烘干后的板子要盡快曝光，最好不要超過12小時(shí)。 4．曝光 曝光是在紫外線的作用下，濕膜中的單體分子在吸收光能量后產(chǎn)生的光聚合反應(yīng)過程。選用功率大的曝光機(jī)，以減少曝光時(shí)間和熱量的累積，保證曝光圖形的穩(wěn)定性和減少粘底片。每班要保持曝光間潔凈，以免雜物附著在版面造成沙眼、缺口、斷線，做曝光尺來(lái)調(diào)整曝光時(shí)間，避免造成曝光量過大或曝光量不足，最后曝光級(jí)數(shù)要控制在6-8級(jí)之間。曝光時(shí)同一種印制單板盡量在同一位置曝光，盡量保證同一種板子棘手的能量相同。曝光量過大，抗蝕刻、抗電鍍的效果較好，但存在去膜效果不理想及圖形線路縮小（使用正片）或擴(kuò)大（使用負(fù)片），曝光不足，造成顯影不良，耐蝕性差，線條邊緣發(fā)毛，線間距增大或減小，在蝕刻時(shí)易造成短路或斷線。 5．顯影 顯影是將沒有曝光的濕膜層部分除去得到所需電路圖形的過程。嚴(yán)格控制顯影液的濃度（10-12g/l）、溫度(30-34℃)，顯影液濃度太高或太低都易造成顯影不凈。優(yōu)化顯影速度使其與曝光量匹配，經(jīng)常清洗噴嘴，讓噴嘴的壓力及分布一致。顯影時(shí)間過長(zhǎng)或顯影溫度過高，會(huì)對(duì)濕膜表面造成劣化，在電鍍或酸性蝕刻時(shí)出現(xiàn)嚴(yán)重的滲度或側(cè)蝕，降低了圖形制作的精度要求。 6．蝕刻和去膜 蝕刻最終得到我們需要的電路圖形，蝕刻液可以選用堿性三氯化鐵、酸性氯化銅和氨水。蝕刻時(shí)不同銅箔厚度要使用不同的蝕刻速度，蝕刻速度還要與蝕刻液的溫度、濃度匹配，經(jīng)常維護(hù)蝕刻機(jī)的噴嘴，保持壓力和噴液分布均勻，不然最后造成蝕可不均和邊緣起銅絲,影響PCB的品質(zhì)。去膜我公司采用4-7%的氫氧化鈉溶液在50-60℃進(jìn)行，主要是氫氧化鈉使膜層膨脹再細(xì)分的過程，控制好參數(shù)孔內(nèi)的濕膜也能褪掉。我們?cè)谔厥獾碾p面板使用濕膜做圖形轉(zhuǎn)移達(dá)到了很好的效果。 |
