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9月7日，荷蘭政府正式公布了關于浸潤式深紫外（DUV）光刻機出口的新規定，標志著全球半導體行業格局迎來新一輪調整。根據這一新規，全球光刻機巨頭阿斯麥（ASML）在出口其TWINSCAN NXT:1970i和1980i兩款中等系列DUV光刻機時，需向荷蘭政府申請出口許可證，而非此前的美國政府。該新規自今日起生效，將對全球半導體供應鏈產生深遠影響。 荷蘭貿易部長雷內特·克萊弗在宣布這一決定時表示：“隨著技術的不斷進步，這些特定生產機器的出口確實可能涉及更多的敏感信息和技術泄露風險。出于安全考慮，我們決定加強對這些設備的出口管制�！彼瑫r強調，這一決策并非針對任何特定國家，而是基于技術進步帶來的安全風險的全面評估。 阿斯麥作為全球領先的光刻機供應商，其產品在全球半導體制造中占據重要地位。根據新規，ASML需要為其TWINSCAN NXT:1970i和1980i兩款中等系列DUV光刻機向荷蘭政府申請出口許可證，而不是之前一直負責審批的美國政府。ASML迅速對此作出回應，表示將積極適應新規定，并相信這一調整將使出口許可證的發放方式更加協調統一。 ASML在一份官方聲明中指出，雖然新規可能增加公司的運營成本和時間成本，但預計不會對其2024年的財務前景或長期增長計劃產生重大影響。公司首席執行官溫寧格·彼得強調：“中國市場是全球半導體產業鏈不可或缺的一部分，ASML將繼續致力于與全球客戶合作，共同推動半導體行業的繁榮發展�！� 值得注意的是，此次荷蘭政府調整出口管制政策，背后是復雜的國際博弈。近年來，美國一直試圖通過加強對全球半導體產業的控制，限制競爭對手的發展。荷蘭作為半導體產業鏈的重要一環，其政策調整無疑是在這一背景下作出的重要決定。然而，荷蘭政府收回出口許可證審批權，也釋放出其在半導體芯片這一關鍵戰略領域將更加注重自身自主權和利益的信號。 市場分析人士指出，荷蘭政府的新規可能對全球半導體供應鏈產生連鎖反應。一方面，依賴ASML光刻機的客戶可能需要重新評估供應鏈和生產計劃，以適應新的出口規定；另一方面，這也可能促使更多企業開始考慮多元化采購策略，以降低對單一供應商的依賴。 |
