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在我國集成電路產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展的背景下，東方晶源科技股份有限公司（以下簡稱“東方晶源”）今日宣布，其自主研發(fā)的新一代電子光學(xué)系統(tǒng)（Electron Optical System，簡稱EOS）已成功搭載到旗下多款高端電子束量測(cè)檢測(cè)設(shè)備中，實(shí)現(xiàn)了國產(chǎn)EOS在高端量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的突破性應(yīng)用。這一里程碑式的成就，不僅標(biāo)志著東方晶源在電子束量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力達(dá)到了國際領(lǐng)先水平，更為我國集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和進(jìn)步奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。 作為電子束量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的先行者和領(lǐng)跑者，東方晶源始終堅(jiān)持自主研發(fā)，不斷深化研發(fā)投入，加速技術(shù)創(chuàng)新步伐。此次推出的新一代EOS，是東方晶源技術(shù)團(tuán)隊(duì)多年努力的結(jié)晶，其成功搭載到電子束缺陷復(fù)檢設(shè)備（DR-SEM）、關(guān)鍵尺寸量測(cè)設(shè)備（CD-SEM）和電子束缺陷檢測(cè)設(shè)備（EBI）中，標(biāo)志著國產(chǎn)EOS在高端量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的應(yīng)用邁出了堅(jiān)實(shí)的一步。 DR-SEM是一款基于超高分辨率電子束成像技術(shù)的設(shè)備，主要用于對(duì)芯片制造過程中的缺陷進(jìn)行復(fù)檢分析，包括形貌分析和成分分析等。東方晶源新一代DR-SEM EOS采用了適配自研的多通道高速探測(cè)器，支持多信號(hào)類型分析檢測(cè)，兼容EDX成分分析功能，能夠覆蓋廣泛的缺陷復(fù)檢應(yīng)用場景。同時(shí)，搭配高精度定位技術(shù)，新一代DR-SEM EOS的檢測(cè)精度和速度均達(dá)到了業(yè)界主流水準(zhǔn)，為芯片制造過程中的質(zhì)量控制提供了有力保障。 CD-SEM作為產(chǎn)線量測(cè)的基準(zhǔn)設(shè)備，對(duì)EOS的核心技術(shù)需求在于高分辨、高產(chǎn)能和高穩(wěn)定性。東方晶源新一代CD-SEM EOS通過采用球色差優(yōu)化的物鏡、像差補(bǔ)償技術(shù)和自動(dòng)校正技術(shù)等新方案，實(shí)現(xiàn)了高成像分辨率和高量測(cè)精度，達(dá)到了業(yè)界一流水平。同時(shí)，自研探測(cè)器針對(duì)頻響和信噪比進(jìn)行了優(yōu)化，支持快速圖像采集，結(jié)合高速AFC技術(shù)，可以在不損失精度的情況下大幅提升量測(cè)產(chǎn)能。這一技術(shù)方案確保了CD-SEM在產(chǎn)線量測(cè)中的穩(wěn)定性和一致性，進(jìn)一步提升了生產(chǎn)效率。 針對(duì)國內(nèi)領(lǐng)先的邏輯與存儲(chǔ)客戶產(chǎn)線檢測(cè)需求，EBI EOS在保證檢測(cè)精度的前提下，重點(diǎn)提升了檢測(cè)速度。東方晶源最新研發(fā)的EBI EOS通過四大技術(shù)手段在檢測(cè)精度和速度上進(jìn)行了顯著的優(yōu)化與提升，滿足了客戶對(duì)高效、精準(zhǔn)檢測(cè)的需求。 隨著半導(dǎo)體工藝水平的飛速發(fā)展，電子束在線量測(cè)檢測(cè)的重要性日益凸顯。東方晶源在高速成像和多電子束技術(shù)方面取得了重要突破，實(shí)現(xiàn)了相關(guān)技術(shù)的原理驗(yàn)證，為提升設(shè)備產(chǎn)能和滿足市場需求提供了有力支持。 |
