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來源：IT之家 ASML 公司近日通過官方 X（推特）賬號發(fā)布推文，宣布已經(jīng)向英特爾交付首臺高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備。 
IT之家此前報道，ASML 研制的高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備主要用于生產(chǎn) 2nm 工藝半導(dǎo)體芯片，數(shù)值孔徑（NA）光學(xué)性能從 0.33 提高到 0.55。 ASML 明年規(guī)劃產(chǎn)能僅有 10 臺，而英特爾已經(jīng)預(yù)訂了其中 6 臺，不過 ASML 計劃在未來幾年內(nèi)將此設(shè)備產(chǎn)能提高到每年 20 臺。 ASML 新的高數(shù)值孔徑 EUV 系統(tǒng)涉及一種全新的工具，具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭，分辨率為 8 納米。 ASML 官方并未說明向英特爾交付了哪款型號的光刻設(shè)備，非官方消息來源稱本次交付的是 Twinscan EXE：5000 原型，交付給英特爾位于俄勒岡州的研究中心。 報道稱本次交付采用了 250 個大箱包裝，共計占用了 13 個集裝箱，考慮到交貨時間和后續(xù)安裝，真正投入使用還需要數(shù)月時間。 此外報道稱，英特爾在量產(chǎn)過程中，會使用 ASML 更先進的 Twinscan EXE：5200 光刻設(shè)備，預(yù)估一臺成本為 2.5 億歐元。 |
