碳化硅(SiC)是比較新的半導體材料。一開始,了解一下它的物理特性和特征。 找元器件現貨上唯樣商城! SiC的物理特性和特征
SiC是由硅(Si)和碳(C)組成的化合物半導體材料。其結合力非常強,在熱、化學、機械方面都非常穩定。SiC存在各種多型體(多晶型體),它們的物理特性值各有不同。4H-SiC最適用于功率元器件。下表為Si和近幾年經常聽到的半導體材料的比較。 3英寸4H-SiC晶圓表中黃色高亮部分是Si與SiC的比較。藍色部分是用于功率元器件時的重要參數。如數值所示,SiC的這些參數頗具優勢。另外,與其他新材料不同,它的一大特征是元器件制造所需的p型、n型控制范圍很廣,這點與Si相同。基于這些優勢,SiC作為超越Si限制的功率元器件用材料備受期待。 SiC功率元器件的特征 SiC比Si的絕緣擊穿場強高約10倍,可耐600V~數千V的高壓。此時,與Si元器件相比,可提高雜質濃度,且可使膜厚的漂移層變薄。高耐壓功率元器件的電阻成分大多是漂移層的電阻,阻值與漂移層的厚度成比例增加。因為SiC的漂移層可以變薄,所以可制作單位面積的導通電阻非常低的高耐壓元器件。理論上,只要耐壓相同,與Si相比,SiC的單位面積漂移層電阻可低至1/300。 Si 功率元器件為改善高耐壓化產生的導通電阻増大問題,主要使用IGBT(絕緣柵極雙極晶體管)等少數載流子元器件(雙極元器件)。但因為開關損耗大而具有發熱問題,實現高頻驅動存在界限。由于SiC能使肖特基勢壘二極管和MOSFET等高速多數載流子元器件的耐壓更高,因此能夠同時實現 “高耐壓”、“低導通電阻”、“高速”。 此時,帶隙是Si的約3倍,能夠在更高溫度下工作。現在,受封裝耐熱性的制約可保證150℃~175℃的工作溫度,但隨著封裝技術的發展將能達到200℃以上。
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