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來源：大半導體產業(yè)網(wǎng) 12月17日，恰逢沈陽芯源微電子設備股份有限公司成立二十周年，公司正式發(fā)布前道浸沒式高產能涂膠顯影機新品FT（III）300。公司董事長兼總裁宗潤福表示：“這是公司發(fā)展的又一重要里程碑，成立二十年來，公司始終聚焦于涂膠顯影技術領域，可謂二十年磨一劍。本次前道浸沒式高產能涂膠顯影機的成功推出，將進一步豐富公司的產品結構，實現(xiàn)公司在前道晶圓加工環(huán)節(jié)28nm及以上工藝節(jié)點的全覆蓋，并可持續(xù)向更高工藝等級迭代，鞏固和提升公司在行業(yè)內的技術競爭優(yōu)勢。未來芯源微將繼續(xù)致力于產品創(chuàng)新和技術提升，成為受社會尊重的世界級企業(yè)。 
公司前道設計部總監(jiān)、浸沒式機臺主設計師程虎詳細介紹了該款機臺的技術性能及客戶端驗證情況，“作為芯源微自主開發(fā)的第三代機型，浸沒式高產能涂膠顯影機具有高產能、高工藝能力、高潔凈度、高擴展性和易維護性等優(yōu)勢。目前，該款機型已通過客戶端驗證，達到客戶量產要求，成功打破國外壟斷，填補國內空白”。 “該款機型采用獨創(chuàng)的對稱分布高產能架構，滿配36 Spin處理單元，搭載公司自主研發(fā)的雙向同步取放機械手，可大幅提升整機的機械傳送產能和傳送精度，能夠匹配全球主流光刻機聯(lián)機生產，可在復雜工藝下實現(xiàn)300片以上產能。此外，機臺還搭載了公司開發(fā)的精確溫度調制（PTM）技術，使熱盤烘烤溫度均勻性達到業(yè)界領先水平；全新的Spin單元實時控制技術，可有效提升機臺運動控制及流體控制精度、響應性及穩(wěn)定性，持續(xù)為客戶降低成本；通過仿真優(yōu)化設計整機流場，確保內部微環(huán)境均勻穩(wěn)定，提升整機的潔凈度等級；全系列輔助功能單元，包含AOI、WEE系統(tǒng)等，可在線式檢測晶圓工藝缺陷，減少不良品流出。” “該款機型通過選配可全面覆蓋KrF、ArF dry、ArF浸沒式等多種光刻技術，也適用包括SOC、SOH、SOD等在內的其他旋涂類應用。為應對未來光刻機產能的不斷提升，該機型還可擴充至更多處理單元，由目前的36 Spin擴展為48 Spin，產能提升到每小時360片，同時實現(xiàn)在低占地面積下兼顧機臺易維護性，有效提升機臺維護效率。” |
