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先說(shuō)一下流程:內(nèi)層(省略)—鉆孔—PTH—平板電鍍(一次銅)—外層圖形轉(zhuǎn)移—圖形電鍍(二次銅)—堿性蝕刻。。。
問(wèn)題現(xiàn)象:板件最后通斷檢查時(shí)發(fā)現(xiàn)定位性孔中開(kāi)路,開(kāi)路現(xiàn)象與干膜流膠入孔很相似,均為孔口開(kāi)路,形狀平整。問(wèn)題的重點(diǎn)是,定位性或定位區(qū)域出現(xiàn)孔中開(kāi)路,我們懷疑與板件的結(jié)構(gòu)特性有關(guān),即板件定位性區(qū)域散熱不良或內(nèi)層平整性差。
另外,還想請(qǐng)教一下干膜流膠入孔的特性,此前我們?cè)囼?yàn)板件貼膜后停留時(shí)間超長(zhǎng)或前處理烘板殘留水汽均為造成干膜流膠入孔,而現(xiàn)階段該兩個(gè)問(wèn)題均已改善,但還是不時(shí)出現(xiàn),是否還有其他因素影響,還是這根本就不是干膜流膠造成。 |
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