三星電子宣布開發出業內首款基于第三代10nm級工藝的DRAM內存芯片,將服務于高端應用場景,這距離三星量產1y nm 8Gb DDR4內存芯片僅過去16個月。量產時間預計在今年下半年,成品的8GB DDR4模組也在驗證中,目標領域是下一代企業級服務器和2020年的高端PC產品。 第三代10nm級工藝即1z nm(在內存制造中,用x/y/z指代級,工藝區間是10~20nm),整合了EUV極紫外光刻技術,單芯片容量8Gb(1GB)。三星表示,1z nm是業內目前最頂尖的工藝,生產效率較1y nm提升了20%,可以更好地滿足日益增長的市場需求。 三星還表示,將在平澤市(Pyeongtaek)提高DRAM芯片的產能,同時上述先進技術還將應用于未來的DDR5、LPDDR5、GDDR6產品上。不過,三星電子聯席CEO金基南(Kim Ki-nam)不久前還指出,由于智能機市場增長乏力,數據中心公司削減投資,公司的存儲芯片等零部件業務預計將面臨艱難一年。 --電腦之家 |