來源:中國科技網 11月9日,英諾賽科(珠海)科技有限公司自主研發的中國首條8英寸硅基氮化鎵生產線在珠海正式通線投產。 氮化鎵又被稱作第三代半導體,是當今世界上最具潛力的半導體材料之一,并被預言將會在不久的未來改變世界。硅基氮化鎵產業早在20年前就開始在歐洲和美國等地發展,如今在產品和技術方面已經取得了重大進展。然后,在中國該產業才剛起步,中國在這一產品領域尚屬空白。 英諾賽科(珠海)科技有限公司擁有世界領先的8英寸硅基氮化鎵外延技術,突破了低翹曲度、低缺陷及位錯密度、低漏電晶圓制造的全球性挑戰,將碎片率大幅降至1%以下領先水平。經過兩年的努力,該公司已建成中國首條完整8英寸硅基氮化鎵外延與芯片量產生產線,主要產品包括100V-650V氮化鎵功率器件,設計及性能均達到國際最先進水平,將廣泛應用于電力電子、新能源、電動汽車、信息與通信和智能工業等領域。 “建設一個自主可控、安全的生產體系,這是半導體行業、信息產業的責任。企業只有建立起自己的研發體系、人才體系,這樣才能不斷進步,不斷領先。”中國半導體行業協會執行副理事長兼秘書長徐小田當天在現場表示,作為半導體行業協會,政策上將著重在科研體系的建立、人才培養等方面給予關注,與所有企業一起改善環境,參與國際競爭、國際交流,推動產業發展。 當天,多名業內專家在隨后舉行的研討會上談到,氮化鎵產業已經到了爆發前夜,在8英寸硅基氮化鎵晶圓產業化上取得重大突破,為今后該領域的發展奠定了良好基礎,必將為中國在半導體領域實現“換道超車”作出重要貢獻。 |