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系統設計文章列表

Veloce仿真環境下的SoC端到端軟硬件功能驗證

Veloce仿真環境下的SoC端到端軟硬件功能驗證

很多人認為硬件加速器無非是一種速度更快的仿真器而已。毫無疑問,由于硬件加速器使用物理硬件進行仿真,使用硬件加速器驗證復雜的集成電路和大型片上系統(SoC)能比軟件仿真器快若干數量級。 ...
2014年07月18日 13:50   |  
Veloce   仿真  

當代ASIC設計的潛在趨勢

過去十年來,不同行業領域的眾多原裝置制造商(OEM)清楚表達了逐漸摒棄使用特定用途積體電路(ASIC)、反而在更大程度上依靠標準現成元件的意圖。背后的主要原因是這樣可讓他們壓低總成本,并縮減 ...
2014年07月17日 10:52
硅光子帶來新的設計挑戰

硅光子帶來新的設計挑戰

作者:John Ferguson 和 Fedor Pikus, Mentor Graphics公司 新興硅光子 (SiP) 技術前景廣闊,有望帶來顯著的性能提升和可控制的生產成本。光信號傳播速度較快,而且沒有物理寄生造成的降速影 ...
2014年07月07日 09:45   |  
硅光子   SiP  
如何采用門控時鐘來設計低功耗時序電路

如何采用門控時鐘來設計低功耗時序電路

作者:Bhanu Khera,設計工程師;Harsh Garg,設計工程師;飛思卡爾半導體(印度)有限公司 在傳統設計中,所有計算機運算(算法、邏輯和存儲進程)都參考時鐘同步執行,時鐘增加了設計中的時序 ...
2014年06月23日 15:34   |  
時序   門控  
FinFET 與多重圖案拆分影響下的布局和布線

FinFET 與多重圖案拆分影響下的布局和布線

作者:Arvind Narayanan,Mentor Graphics公司 隨著高級工藝的演進,電路設計團隊在最先進的晶片上系統內加載更多功能和性能的能力日益增強。與此同時,他們同樣面臨許多新的設計挑戰。多重 ...
2014年06月23日 09:42   |  
布線   FinFET   電路設計  
基于模型的高級電機控制系統設計

基于模型的高級電機控制系統設計

作者: ADI公司Anders Frederiksen 最近幾十年來,借助高級處理器功能來簡化設計一直都是廣泛討論的話題。如今,設計靈活性進一步提高,使工程師能夠采用標準的MATLAB和Simulink模型設計來優 ...
2014年06月20日 15:02   |  
系統設計   Simulink   MATLAB   電機控制  
修復雙重圖形誤差的途徑:切割和縫合

修復雙重圖形誤差的途徑:切割和縫合

作者:David Abercrombie和張淑雯,Mentor Graphics 雙重圖形(DP)是指將單層IC版圖分解成兩個光罩,在此過程中,有許多多邊形配置可能會導致違反DP設計規則。其中一些錯誤可藉由增加多邊 ...
2014年06月09日 16:02   |  
雙重圖形   物理設計   IC設計  
車載網絡:應用自動化設計與合成工具

車載網絡:應用自動化設計與合成工具

作者:Andrew Patterson,來自 Mentor Graphics公司 自2003年組建以來,AUTOSAR(汽車開放系統架構)聯盟一直致力于改變車載網絡和電子控制單元 (ECU) 的設計方式。AUTOSAR 提出了一個符合業 ...
2014年05月20日 09:56   |  
AUTOSAR   車載網絡   ECU   自動化設計  

嵌入式是什么?信盈達為您解答

嵌入式系統是以應用為中心,以計算機技術為基礎,并且軟硬件可裁剪,適用于應用系統對功能、可靠性、成本、體積、功耗有嚴格要求的專用計算機系統。它一般由嵌入式微處理器、外圍硬件設備、嵌入 ...
2014年05月04日 11:13   |  
嵌入式  
鰭式場效晶體管集成電路設計與測試

鰭式場效晶體管集成電路設計與測試

作者:Carey Robertson、Steve Pateras、張淑雯,Mentor Graphics公司 鰭式場效晶體管的出現對集成電路物理設計及可測性設計流程具有重大影響。鰭式場效晶體管的引進意味著在集成電路設計制 ...
2014年04月02日 16:50   |  
鰭式   場效  
如果您懼怕改變, ECO 填充工具可以幫您

如果您懼怕改變, ECO 填充工具可以幫您

作者:明導 (Mentor Graphics) 的張淑雯 (Shu-Wen Chang) 和 Jeff Wilson 集成電路 (IC) 設計團隊通常在預定最后送交制造(tapeout)期限臨近時承受著巨大的壓力。更糟糕的是,他們往往還面臨 ...
2014年03月24日 10:15   |  
IC設計   ECO   tapeout  
無色與雙色雙重圖形成型設計的對比

無色與雙色雙重圖形成型設計的對比

作者:David Abercrombie、張淑雯,Mentor Graphics公司 信不信由你,不用畫兩張圖形就能進行雙重圖形IC設計!通常,DP是一個“雙色”的流程,設計工程師從若干分解選擇中選出一種,流片(ta ...
2014年03月11日 13:52   |  
IC設計   成型   原型  

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