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硅工藝創(chuàng)新幫助 FPGA 滿足嵌入式應(yīng)用的低功耗要求

發(fā)布時(shí)間:2024-8-12 15:51    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: FPGA , 嵌入式應(yīng)用
來源:富昌電子

英特爾或 AMD 的大型昂貴 FPGA 針對(duì)性能進(jìn)行了優(yōu)化,而不是低功耗。這導(dǎo)致了一種普遍的看法,即 FPGA 盡管具有靈活性和可編程硬件配置等優(yōu)勢(shì),但設(shè)計(jì)人員必須付出更高功耗的代價(jià),尤其是與微控制器相比。

事實(shí)上,來自其他制造商的服務(wù)于中低端市場的FPGA提供精簡的硬件架構(gòu),包含剛好足夠的邏輯元件 (LE) 供嵌入式應(yīng)用使用,因此可以很好地節(jié)能。這些 FPGA 提供確定性執(zhí)行并支持并行處理,使其成為數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換和橋接、始終在線的傳感器集線器以及邊緣人工智能 (AI) 和機(jī)器學(xué)習(xí)推理等功能的理想選擇。

那么,對(duì)于低功耗是至關(guān)重要的成功因素的設(shè)計(jì)項(xiàng)目,設(shè)計(jì)工程師如何選擇低端或中端 FPGA 系列呢?在這種情況下,除了產(chǎn)品數(shù)據(jù)手冊(cè)之外,我們有必要了解每個(gè) FPGA 所基于的硅片架構(gòu)。

FPGA 中的功耗要素

電子設(shè)計(jì)中提高電源效率的要求遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出了電池供電設(shè)備。低功耗運(yùn)行和由此產(chǎn)生的低自熱為每個(gè)電子系統(tǒng)帶來多重好處,包括:

· 增加主處理組件的熱余量,使其能夠高速運(yùn)行,從而提高系統(tǒng)計(jì)算能力
· 提高可靠性:板載器件的結(jié)溫和平均故障時(shí)間之間存在直接關(guān)系。更高效的FPGA在運(yùn)行時(shí)溫度更低,從而降低了機(jī)箱內(nèi)其他組件的溫度
· 使設(shè)計(jì)更小更輕:更高效的系統(tǒng)產(chǎn)生的廢熱更少,減少了散熱需求。當(dāng)電路在沒有風(fēng)扇或散熱片的情況下能以峰值速度運(yùn)行時(shí),設(shè)計(jì)者可以減小機(jī)箱的尺寸
· 降低系統(tǒng)成本,因?yàn)闇p少或消除了諸如散熱片或風(fēng)扇等組件,并且使用了額定功率更低的電源和更簡單的PCB

低端或中檔FPGA在許多情況下將執(zhí)行系統(tǒng)中最重要的功能,因此其功耗可能是整體能耗的最大貢獻(xiàn)者。這意味著了解FPGA如何消耗功率非常重要。實(shí)際上,F(xiàn)PGA功耗有兩個(gè)要素:靜態(tài)功耗和動(dòng)態(tài)功耗。

靜態(tài)功耗是FPGA在通電但不主動(dòng)執(zhí)行任何操作時(shí)消耗的功率。這種功耗是由晶體管和FPGA其他元件中的漏電流引起的。靜態(tài)功耗相對(duì)恒定,無論FPGA是以全速運(yùn)行還是處于靜止模式,變化都不大。靜態(tài)功耗與邏輯元件的數(shù)量、芯片的電源電壓和芯片溫度直接相關(guān)。靜態(tài)功耗還受到制造FPGA的硅工藝技術(shù)特性的強(qiáng)烈影響。

動(dòng)態(tài)功耗是FPGA在主動(dòng)執(zhí)行操作時(shí)消耗的功率。這種功耗是由FPGA內(nèi)部電容的開關(guān)操作引起的。動(dòng)態(tài)功耗與FPGA的開關(guān)活動(dòng)成正比。內(nèi)部電容開關(guān)越頻繁,消耗的動(dòng)態(tài)功耗就越多。

FPGA 的總功耗是靜態(tài)功耗和動(dòng)態(tài)功耗的總和。

動(dòng)態(tài)功耗在很大程度上可以由系統(tǒng)設(shè)計(jì)人員管理。諸如時(shí)鐘門控(可避免在未使用的時(shí)鐘樹分支上浪費(fèi)功率)和用于 RAM 的綜合選項(xiàng)(按地址寬度劃分 RAM 塊)等技術(shù)可以應(yīng)用于任何類型的 FPGA。

靜態(tài)功耗不能以相同的方式直接控制,盡管設(shè)計(jì)人員可以通過選擇 FPGA 配置來影響它。例如,在選擇 FPGA 時(shí),邏輯單元(LE)的數(shù)量是一個(gè)重要因素:密度和靜態(tài)功耗之間存在權(quán)衡。選擇具有更多邏輯單元(LE)的 FPGA 可以實(shí)現(xiàn)更多功能,但代價(jià)是更高的靜態(tài)功耗。

所選 FPGA 的硅工藝技術(shù)也會(huì)嚴(yán)重影響靜態(tài)功耗,并且每個(gè) FPGA 制造商的情況都不同。在中低端 FPGA 市場,萊迪思半導(dǎo)體公司和 Microchip 是最突出的制造商:這兩家公司都在開發(fā)制造工藝方面做出了巨大但截然不同的努力,與英特爾和 AMD 使用的傳統(tǒng)基于 SRAM 的 FPGA 技術(shù)相比,這些工藝大大降低了靜態(tài)功耗。

FPGA 低功耗硅技術(shù)的比較

Microchip 憑借其廣泛的 PolarFire® FPGA 系列在中端市場占據(jù)一席之地:其中包括 SoC PolarFire 系列,該系列具有硬連線 RISC-V CPU 和可編程邏輯單元(LE)。這種結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)的基于 SRAM 的 FPGA 有根本區(qū)別。在 Microchip FPGA 中,可編程單元由類似于閃存的非易失性存儲(chǔ)器技術(shù)形成,如圖 1 所示。

與基于 SRAM 的 FPGA 不同,這種非易失性單元技術(shù)在通電時(shí)處于活動(dòng)狀態(tài),從而縮短了系統(tǒng)啟動(dòng)時(shí)間。此外,與典型的基于 SRAM 的 FPGA 相比,它可節(jié)省 30% 至 50% 的功耗。


圖 1:左側(cè)顯示的 Microchip 非易失性 FPGA 單元針對(duì)性能和低功耗之間的平衡進(jìn)行了優(yōu)化。右側(cè)的 SRAM 單元會(huì)消耗大量漏電流,針對(duì)高性能進(jìn)行了優(yōu)化。

隨著最新一代 Microchip FPGA 技術(shù)的推出,使用非易失性單元的優(yōu)勢(shì)得到了增強(qiáng),如圖 2 所示。硅-氧化物-氮化物-氧化物-硅 (SONOS) 工藝采用相對(duì)先進(jìn)的 28 nm 工藝制造,與之前 Microchip 浮柵技術(shù)中使用的 65 nm 節(jié)點(diǎn)相比,具有成本和性能優(yōu)勢(shì)。

SONOS 單元的配置特別適合低功耗。兩個(gè)可編程配置控制 FPGA 數(shù)據(jù)信號(hào)路徑。在堆棧漏電流路徑中,兩個(gè)非易失性元件中的一個(gè)始終被設(shè)置成非常深的關(guān)斷狀態(tài)。

當(dāng)數(shù)據(jù)路徑開啟時(shí),N 溝道非易失性元件處于關(guān)閉狀態(tài),其電壓比正常晶體管電壓高出約 0.5 V,這意味著漏電流將降至可忽略不計(jì)的值,遠(yuǎn)低于標(biāo)準(zhǔn) CMOS 晶體管堆棧的漏電流。

當(dāng)數(shù)據(jù)路徑關(guān)閉時(shí),開關(guān)漏電流路徑是關(guān)閉狀態(tài)開關(guān)上的漏電流。開關(guān)為高壓,并且經(jīng)過優(yōu)化,漏電流遠(yuǎn)低于標(biāo)準(zhǔn)晶體管。


圖2:Microchip的SONOS FPGA技術(shù)的單元配置。左側(cè)顯示的是開啟狀態(tài)的配置,右側(cè)顯示的是關(guān)閉狀態(tài)的配置。

非易失性SONOS單元在斷電后仍能保持其狀態(tài),使FPGA在不重新配置的情況下恢復(fù)正常操作。總體而言,Microchip估計(jì)PolarFire FPGA的靜態(tài)功耗僅為基于SRAM的FPGA的10%。

Microchip采用的非易失性技術(shù)方法在FPGA制造中是獨(dú)特的,但低端FPGA市場的另一個(gè)主要供應(yīng)商萊迪思也采用了新的工藝技術(shù),以實(shí)現(xiàn)低靜態(tài)功耗。

萊迪思Nexus平臺(tái)的FPGA采用由三星開發(fā)的完全耗盡絕緣體上硅(FD-SOI)技術(shù),這與用于制造大多數(shù)半導(dǎo)體的體硅CMOS工藝類似。與Microchip不同,萊迪思使用易失性SRAM技術(shù):每次上電時(shí),存儲(chǔ)在內(nèi)部或外部配置存儲(chǔ)器中的比特流對(duì) FPGA 進(jìn)行編程。

與傳統(tǒng)SRAM體硅工藝技術(shù)相比,采用FD-SOI技術(shù)可大幅降低 SRAM 單元的漏電流。FD-SOI 技術(shù)采用超薄埋氧層,可形成非常小且高效的通道。如圖 3 所示,該技術(shù)具有較低的寄生電容和漏電流。此外,由于易受粒子撞擊的區(qū)域(圖3中的橙色部分)更小,該單元的軟錯(cuò)誤率通常比體硅SRAM低約100倍。


圖 3:萊迪思 FD-SOI 技術(shù)具有超薄埋氧層,可顯著降低寄生電容

FD-SOI 技術(shù)的另一個(gè)優(yōu)勢(shì)是可以控制體偏壓,從而調(diào)整 FPGA 以實(shí)現(xiàn)低功耗或高性能。位于晶體管體上的體電阻使開發(fā)人員能夠在操作過程中控制晶體管的強(qiáng)度。體偏壓控制可通過萊迪思開發(fā)環(huán)境進(jìn)行編程,可根據(jù)應(yīng)用的功率和熱約束選擇高性能模式或低功耗模式。

萊迪思估計(jì),在 Nexus FD-SOI 平臺(tái)上制造的 FPGA 的功耗比同類競爭 FPGA 低 75%。

如何在 FPGA 選擇中考慮靜態(tài)功耗

必須正確看待工藝技術(shù)對(duì) FPGA 選擇的影響:功耗只是電子設(shè)計(jì)中經(jīng)典的功耗/性能/面積/成本 (PPAC) 權(quán)衡的一部分。靜態(tài)功耗只是功耗方程的一個(gè)元素,而動(dòng)態(tài)功耗在總功耗中所占的比例比靜態(tài)功耗更大。

盡管如此,Microchip 和萊迪思在 FPGA 制造工藝中引入的創(chuàng)新可大幅降低靜態(tài)功耗,并增強(qiáng)了低端和中端 FPGA 在基于 AI 和許多其他應(yīng)用中的吸引力。
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