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來源：IT之家 光罩護(hù)膜 / 薄膜是極紫外 (EUV) 光刻工藝中的關(guān)鍵部件，指的是在光罩上展開的一層薄膜，然后用機器在上面繪制要在晶圓上壓印的電路，旨在使光罩免受空氣中微塵或揮發(fā)性氣體的污染并減少光掩模損壞，該領(lǐng)域目前仍由荷蘭 ASML、日本三井化學(xué)主導(dǎo)，而韓國 S&S Tech 等后來居上者也是主要供應(yīng)商之一。 韓媒 ETNews 報道稱，三星電子已經(jīng)自主開發(fā)出了透光率高達(dá) 88% 的 EUV 薄膜，有助于實現(xiàn)供應(yīng)鏈多元化和穩(wěn)定。據(jù)證實，這款透光率 88% 的 EUV 薄膜產(chǎn)品已經(jīng)可以大規(guī)模生產(chǎn)。 
▲ EUV 薄膜（pellicle） 圖源：ASML IT之家獲悉，三星電子在去年的 2021 Foundry Forum 上宣布自研 EUV 薄膜，當(dāng)時還公開宣布他們開發(fā)出了 82% 透光率薄膜技術(shù)，并宣布到 2022 年將擁有 88% 透光率的量產(chǎn)系統(tǒng)。 值得一提的是，韓國公司 S&S Tech 在 2021 年生產(chǎn)成功開發(fā)出了透光率達(dá) 90% 的半導(dǎo)體 EUV 薄膜，一舉成為除了 ASML 之外另一家成功開發(fā)出了透光率超過 90% 的 EUV 薄膜的公司。據(jù)稱，三星對它的要求是將比率提高到 94%。 業(yè)界預(yù)測，今年 EUV 薄膜的需求將比去年增加近 2 倍，而韓國國產(chǎn)的 EUV 薄膜最早將會在 1~2 年內(nèi)商用化。此外，臺積電也正在加快開發(fā)自己的產(chǎn)品以確保 EUV 薄膜可控。
▲ ASML 曝光過程圖 |
