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眾所周知，目前的芯片制程技術是7nm，而明年臺積電將進入5nm的芯片時代，到于3nm，2nm這些，暫時還沒有技術規劃路線圖。 而隨著芯片制程技術的提升，芯片制造過程中最重要的光刻機、刻蝕機等也需要技術改進。基于此，近日傳出在光刻機領域擁有絕對領導位的ASML也正式研發第二代EUV光刻機。 9 W" L1 V5 X4 {6 e6 N# ^ 其實對于光刻機來講，并不是一種芯片制程就對應一代光刻機的，像中芯國際采購那一臺第一代EUV光刻機就可以生產14-7nm的芯片。 而第二代EUV光刻機主要是應對5nm以下的芯片，采用了一種新的High NA透鏡，這個透鏡的采用可以提升微縮分辨率，同時套準精度，據說在這兩個指標上提升70%，這樣便于生產制程更小的芯片，至于能夠支持到3nm，5nm還是多少，ASML未公布具體的消息。 3 m4 \) b2 u6 X( @# @. T" O. d 而價格方面，考慮到第一代EUV光刻機的售價已經超過1億美元了，那么第二代只會更貴，必然會超過1億美元， 肯定也就超過7億元人民幣了。 另外從產能來看，前期不會高，并且ASML會第一代和第二代同時生產，以滿足不同的廠商需求。不過按照慣例，肯定也是要等臺積電、英特爾、三星這些股東廠商買剩了，才輪得到大陸的廠商，比如中芯國際等。但我們也知道這種產品在前期是供不應求的，所以大陸廠商暫時就別想了。 目前，國內廠商生產的刻蝕機能支持5nm的芯片了，但國產光刻機，則還停留在28nm芯片的水準，所以國產廠商真的需求加油。 畢竟像ASML的先進產品，國內在前期是買不到的，而國內目前芯片正在蓬勃發展，正需要先進的光刻機。 |
