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臺積電承認40nm制程問題 2010年轉向28nm

發(fā)布時間:2009-5-4 12:18    發(fā)布者:虞美人
關鍵詞: 制程
在早前舉辦的一次新聞發(fā)布會上,臺積電CEO兼總裁蔡力行(Rick Tsai)承認目前該公司的40nm制程生產(chǎn)線存在良品率問題,同時他還就09年的形式進行了一番預測。早在去年臺積電便宣布了其40nm制程技術的商用化。到今年第一季度,40nm制程部分的產(chǎn)品銷量只占到總銷量的1%,但這個數(shù)值已經(jīng)比預期值較高。第二季度,臺積電預測這個比例將上升到2%左右。

會上當一位分析師問及臺積電40nm制程的良品率問題時,蔡力行稱:“40nm制程的良品率問題依然是一個難題,要知道40nm制程本身就是一項高精技術,生產(chǎn)40nm元件的難度也相當大。不過我們已經(jīng)找到問題所在并試圖改進。”

盡管蔡力行稱已經(jīng)找到40nm制程良品率不佳的問題所在并試圖改進,但他并沒有就此作進一步的詳細說明。

會上臺積電還展示了一款功能化的SRAM芯片,這款芯片將使用28nm制程技術制作,這款產(chǎn)品還采用了high-k,用于與門堆疊結構的金屬門等技術。

這種28nm制程技術還可以在門堆疊結構中使用常規(guī)的硅氧化物。根據(jù)早前的報道,2010年臺積電將轉向28nm制程技術。

目前市面上采用40nm制程技術的消費級產(chǎn)品只有ATI的RV740系列桌面/筆記本用顯卡。
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