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張飛實戰電子——三極管的工作原理--(解釋深刻)!!!
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發表于 2015-4-13 13:56:31
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三極管
一、概念理解
1、N型
半導體
:又稱為
電子
型半導體。在純凈的硅晶體中通過特殊工藝摻入少量的五價元素(如磷、砷、銻等)而形成,其內部自由電子濃度遠大于空穴濃度。所 以,N半導體內部形成帶負電的多數載流子——自由電子,而少數載流子是空穴。N型半導體主要靠自由電子導電。由于自由電子主要由所摻入的雜質提供,所以摻 入的五價雜質越多,自由電子的濃度就越高,導電性能就越強。而空穴由熱激發形成,環境溫度越高,熱激發越劇烈。
2、P型半導體:又稱為空穴型半導體。在純凈的硅晶體中摻入三價元素(如硼)而形成,其內部空穴濃度遠大于自由電子濃度,所以,P型半導體內部形成帶正電 的多數載流子——空穴,而少數載流子是自由電子。P型半導體主要靠空穴導電。由于空穴主要由所摻入雜質原子提供,摻入三價的雜質越多,空穴的濃度就越高, 導電性能就越強。而自由電子是由熱激發形成,環境溫度越高,熱激發越激烈。
3、PN結及特性:P型和N型半導體接觸時,在界面附近空穴從P型半導體向N型半導體擴散,電子從N型半導體向P型半導體擴散。空穴和電子相遇而復合,載 流子消失。因此在界面附近的結區中有一段距離缺少載流子,卻有內建一個由N區指向P區的內電場。由于內電場是由多子建成,所以達到平衡后,內建電場將阻擋 多數載流子的擴散,但不能阻止少數載流子。P區和N區的少數載流子一旦接近PN結,便在內電場的作用下漂移到對方。PN結的單向導電性外加正向
電壓
(正偏):在外電場作用下,多子將向PN結移動,結果使空間電荷區變窄,內電場被削弱,有利于多子的擴散而不利于少子的漂移,擴散運動起主要 作用。結果,P區的多子空穴將源源不斷的流向N區,而N區的多子自由電子亦不斷流向P區,這兩股載流子的流動就形成了PN結的正向
電流
。外加反向電壓(反偏):在外電場作用下,多子將背離PN結移動,結果使空間電荷區變寬,內電場被增強,有利于少子的漂移而不利于多子的擴散,漂移運動起主 要作用。漂移運動產生的漂移電流的方向與正向電流相反,稱為反向電流。因少子濃度很低,反向電流遠小于正向電流。當溫度一定時,少子濃度一定,反向電流幾 乎不隨外加電壓而變化,故稱為反向飽和電流。(如有疑問,歡迎咨詢張飛QQ:437521793 )
4、擴散和漂移:多數載流子移動時擴散,少數載流子移動時漂移。
5、復合:電子和空穴相遇就會復合,大量的電子-空穴對復合就形成電流。
6、空間電荷區:也稱耗盡層。在PN結中,由于自由電子的擴散運動和內電場導致的漂移運動,使PN結中間的部位(P區和N區交界面)產生一個很薄的電荷 區,它就是空間電荷區。在這個區域內,多數載流子已擴散到對方并復合掉了,或者說消耗殆盡了,因此,空間電荷區又稱為耗盡層。P區一側呈現負電荷,N區一 側呈現正電荷,因此空間電荷區出現了方向由N區指向P區的內電場。內電場將阻礙多子的擴散,而少子一旦靠近PN結,便在內電場的作用下漂移到對方。PN結正偏時,內電場減弱,有利于多子的擴散而不利于少子的漂移。PN結反偏時,擴散運動使空間電荷區加寬,內電場增強,有利于少子的漂移而不利于多子的擴散。(如有疑問,歡迎咨詢張飛QQ:437521793 )
7、內電場:PN結附近空間電荷區中,方向由N區指向P區的內電場。內電場對多數載流子起隔離作用,而對少數載流子起導通作用。
8、載流子:可以自由移動的帶有電荷的物質微粒,如電子和離子。金屬中為電子,半導體中有兩種載流子即電子和空穴。
9、少數載流子:P型半導體地少數載流子是自由電子,N型半導體中是空穴。
10、
二極管
:單向導電性。正偏多數載流子可以通過,反偏少數載流子可以通過。反偏時P型半導體和N型半導體不能提供源源不斷的少數載流子,所以反偏近似無電流。
二、
三極管
的工藝要求及作用
1、發射區摻雜濃度高:確保發射區中有足夠多的多數載流子——電子,當基極
電壓高于發射極的時候,才有足夠多的電子擴散到基極。
2、基區做得非常薄:可以更好的讓基極(P型半導體)中的少數載流子——電
子漂移到集電極。
三、工作條件
1、集電極電壓(Vc)大于基極電壓(Vb),基極電壓(Vb)稍高于發射極電壓(Ve)即:Vc>Vb>Ve,其中Vb一般高于Ve為0.7V;Vc常見電壓比Ve高12V。這樣就使得集電結反偏,發射結正偏。
2、如要取得輸出必須加負載
電阻
。
四、三極管的工作原理
見附圖
五、關于三極管的問題
1、集電極(C極)處于反偏狀態,為什么還有電流通過?答:PN結正偏情況下是利于“多數載流子”通過,而反偏則利于“少數載流子”通過,對于基極(B極)來說,它的少數載流子是電子,而當基極電壓高于發射極,有電流注入時,發射結正偏導通,發射區向基區擴散大量電子。這些電子在內電場的作用下漂移到C極。從三極管外部看來,電流能通過反偏的集電結,其實, 要分清楚“多子”、“少子”的區別。P型半導體的多子是空穴,少子是自由電子;N型半導體的多子是自由電子,少子是空穴。
2、為什么集電極要加上很高的電壓?(如有疑問,歡迎咨詢張飛QQ:437521793 )
答:電壓高能使集電結的內電場更強,作用在少子上的力更大,有利于少子、尤其是從基區漂移到發射區的電子;同時阻止多子的通過。
3、為什么基區要做得很薄?
答:因為少子越貼近內電場,就越容易受其作用漂移到PN結對面。如果做得太厚,那進入基區的電子就不能很好地受內電場的作用,不能很好地漂移到集電區,所以要從生產工藝上把它做得很薄,厚度一般在幾個微米至幾十個微米。
4、為什么發射區的摻雜濃度最高?
答:發射區摻雜濃度高才有更多的多數載流子,P型半導體中的多子是空穴,而 NPN型半導體的發射區是N型半導體,摻雜濃度高使其有更多的自由電子,這樣在 基極和發射極的電壓差(基極高于發射極)作用下,才有更多電子擴散到基區。假設發射區的摻雜濃度和基區濃度相同,那么擴散到基區的電子絕大多數會跟基區的 空穴進行復合掉,電流的放大能力下降。
5、放大倍數β如何確定?答:在生產過程中,控制基區的厚度和各個區的摻雜濃度,就能生產出不同放大倍數β的三極管。
6、基極(B極)小電流如何控制集電極大電流?
答:當基極沒有電流的時候,集電結幾乎沒有電子通過;基極電流慢慢增大時,集電結在正偏電壓作用下,多子逐漸激烈地向基區擴散。由于基區摻雜濃度低,擴散 到集電區的多子少,需要外部注入的電流小。發射區摻雜濃度高,擴散到基區的多子多,需要外部注入的電流大。放大倍數跟基區厚度、發射區摻雜濃度成正比。發 射極跟基極復合的電子非常少,主要被集電結的內電場拉到集電區,集電極電流近似于發射極電流。外部注入基極電流越大,發射區到基區的電子擴散就越激烈,漂 移到集電區的電子也越多。在三極管的外部看來,發射極電流和集電極電流也急劇增大。
7、用兩個二極管可否焊接成一個三極管?答:雖然兩個二極管能結成一個NPN或PNP型的三極管,但其內部電子發燒友體的摻雜濃度不同于三極管,再者“基極”沒能做得很薄,漂移過“集電結”的少子相當少(不是沒有),因此發射極中的載流子幾乎不能到達集電結。(如有疑問,歡迎咨詢張飛QQ:437521793 )
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發表于 2015-5-20 15:20:14
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板凳
發表于 2015-6-24 16:38:38
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二極管的單向導電性,正偏時導大量的多子,反偏時導微量的少子,
多子可以變少子,但少子不能成多子,在BJT中,少子流量遠大于多子流量,但是,沒有多子開道,少子通不了,BJT之所以能成為模擬器件,就是因為一種多子被反偏的那個結攔住。
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安卓佳
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地板
發表于 2015-6-24 16:58:45
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BJT的電流,其實就是兩種多子各司其職而成,
一種多子為訊號所用,另一種則變成少子承載功率,
少子漂移所需的電壓其實不用太高,把集基兩腳并接起來可當二極管用嘛。
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sdql213
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地下室
發表于 2015-6-25 13:32:02
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