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Rolith公司日前展示了采用破壞性毫微光刻方法（滾動掩模光刻 – RML）的金屬網格電極技術。 用于消費電子市場的觸摸顯示屏出現了爆炸性增長。到目前為止，ITO（銦鈦氧化物）材料是用于透明電極的標準解決方案。除了成本過高和材料供應有限之外，它還存在其他問題：這種材料的高反射率降低了對比率、光學性質極快降級至50 Ω/☐以下，從而限制了使用ITO生產而不使性能降級的顯示屏大小。 ITO的唯一可行替代材料（和大型觸摸顯示屏的唯一解決方案）是金屬線網格。對金屬線網格的要求是人眼無法看到，這意味著線寬要小于2微米。此外，窄線有助于應對摩爾效應，金屬線網格的疊加和顯示屏的像素結構會造成這一效應。 Rolith公司采用了名為滾動掩模光刻 (RML) 的專利毫微光刻技術，以制造用于大型基材的透明金屬線網格電極。RML基于近場連續光學光刻，使用圓柱相掩模進行操作。 玻璃基材上的透明金屬電極以亞微米寬納米線的形式制造，以數十微米的間隔光刻到規則的2維網格圖案，厚度為幾百毫微米。經過檢測，人眼無法看到此類金屬結構，極為透明（超過94%的傳遞），霧度極低 (~2%)，同時電阻率低 (<14 Ohm/☐)。這組參數使得Rolith技術領先于ITO替代技術的所有主要競爭技術。 第2代RML工具能夠制造最多1 m長的基材。今年早些時候制造的工具已被用于展示這一技術。 “Rolith僅在幾個月前推出其透明金屬網格電極應用開發，我們對目前達到的結果感到非常興奮。我們相信，我們的突破性技術將為移動設備和大格式顯示屏、監視器和電視帶來經濟高效的高質量觸摸屏。目前，Rolith正與一些觸摸顯示屏制造商討論有關合作事項，預計在未來1年內將技術商業化。我們的路線圖還包括于2014-2015年將這一技術用于柔性基材。”公司創始人兼首席執行官Boris Kobri博士表示。他補充道：“Rolith將在國際觸控面板暨光學膜展會（“Touch Taiwan 2013”）（展臺是N126）和2013年美國印刷電子展覽會（展臺是AA18）上展出其突破性技術。” Rolith 公司 Boris Kobrin 博士 創始人兼首席執行官 info@rolith.com +1-925-548-6064 |
