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一、 濕膜的特點 1. 附著力、覆蓋性好 濕膜本身是由感光性樹脂合成，添加了感光劑、色料、填料及溶劑的一種藍色粘稠狀液體�；纳系陌伎�、劃傷部分與濕膜的接觸良好，且濕膜主要是通過化學鍵的作用與基材來粘合的，從而濕膜與基材銅箔間有優(yōu)良好的附著力，使用絲網(wǎng)印刷能得到很好的覆蓋性，這為高密度的精細線條 PCB的加工提供條件。通過表一可以說明濕膜的附著力： 干膜、濕膜附著力試驗對比表 file:///C:\DOCUME~1\ADMINI~1\LOCALS~1\Temp\ksohtml\wps_clip_image-8238.png 表中的數(shù)據(jù)表明了濕膜的附著力比干膜好得多，相對于精細線條的制作濕膜要好得多。
2．優(yōu)良的分辨率 濕膜與基材的接觸性、覆蓋性好，又采用底片接觸式曝光，縮短了光程，減少了光的能損失、光散射引起的誤差。這使?jié)衲さ姆直媛实囊话阍?5μm以下，提高了圖形制作的精密度，而實際生產(chǎn)中干膜的分辨率很難達到50μm。 3．成本低廉 濕膜的厚度可控，一般來說比干膜較薄，包裝費用也低，相對來講濕膜成本要低點。濕膜在精細線條的內(nèi)層制作過程中合格率大大提高，同干膜相比節(jié)約20%的材料成本。顯影濕的速度要快30%，蝕刻速度也可提高10—20%，褪膜的速度也可增加，從而節(jié)約了能源、提高設備的利用率，最終成本降低了。 4．消除板邊發(fā)毛 貼干膜板邊易發(fā)毛、易產(chǎn)生膜碎，在生產(chǎn)過程中會影響板子的合格率，印濕膜的板子邊緣沒有膜碎和發(fā)毛現(xiàn)象。
二、 濕膜應用時的操作要點 1．刷板 對前工序提供的材料（即生產(chǎn)板）要求板面無嚴重的的氧化、油污、折皺。我們采用酸洗（5%硫酸）噴淋，除去有機雜質(zhì)和無機污物，然后使用500目的尼龍刷輥磨刷。刷板后要達到：銅表面無氧化、銅表面被均勻粗化、銅表面具有嚴格的平整性，還要銅表面無水跡。這種效果增強了濕膜與銅箔表面的結(jié)合力，以滿足后續(xù)工序工藝的要求。刷板后的銅箔表面狀態(tài)直接影響PCB的成品率。 2．絲網(wǎng)印刷 為達到需要厚度的濕膜，絲印前要選絲網(wǎng)，要注意絲網(wǎng)的厚度、目數(shù)（即單位長度上的線數(shù)）。膜厚同絲網(wǎng)的透墨量有關，油墨的理論透墨量（Uth）為：
Uth=Dw2 \（w+d）2 ×1000
（ D ─ 網(wǎng)沙厚度 d ─ 線徑 w ─ 開口寬） 實際透墨量還與濕膜粘度、刮膠壓力、刮膠移動速度有關，為達到均勻覆蓋，刮刀口要軔磨好。印后板面膜厚度要控制在15-25μm之間，膜過厚容易產(chǎn)生曝光不足、顯影不好，預烘難控制，易造成戰(zhàn)地片，操作困難。膜過薄易產(chǎn)生曝光過度，耐蝕性好，電鍍時的絕緣性差，去膜也困難。制造0.15μm以下的精細線條，膜后應小于20μm. 濕膜在用前要調(diào)好粘度，并充分攪拌均勻，靜止十五分鐘，絲印房間的環(huán)境要保持潔凈，以免外來雜物落在面上影響板子的合格率，溫度要控制在20℃左右，相對濕度要在50%上下。 3．預烘 預烘參數(shù)使用第一面在80-100℃烘7-10分鐘，第二面也在80-100℃烘10-20分鐘。預烘主要是蒸發(fā)油墨中的溶劑，預烘關系到濕膜應用的成敗。預烘不足，在貯存、搬運過程中易粘板，曝光時易粘底片，最終造成斷線或短路；預烘過度，易顯影不凈，線條邊緣由鋸齒狀。預烘直接影響到PCB的質(zhì)量，所以在平時的操作重要經(jīng)常測試濕膜厚度，并根據(jù)環(huán)境溫度的變化調(diào)節(jié)烘箱的參數(shù)，經(jīng)常檢查烘箱的鼓風和循環(huán)系統(tǒng)是否良好。烘干后的板子要盡快曝光，最好不要超過12小時。 4．曝光 曝光是在紫外線的作用下，濕膜中的單體分子在吸收光能量后產(chǎn)生的光聚合反應過程。選用功率大的曝光機，以減少曝光時間和熱量的累積，保證曝光圖形的穩(wěn)定性和減少粘底片。每班要保持曝光間潔凈，以免雜物附著在版面造成沙眼、缺口、斷線，做曝光尺來調(diào)整曝光時間，避免造成曝光量過大或曝光量不足，最后曝光級數(shù)要控制在6-8級之間。曝光時同一種印制單板盡量在同一位置曝光，盡量保證同一種板子棘手的能量相同。曝光量過大，抗蝕刻、抗電鍍的效果較好，但存在去膜效果不理想及圖形線路縮�。ㄊ褂谜┗驍U大（使用負片），曝光不足，造成顯影不良，耐蝕性差，線條邊緣發(fā)毛，線間距增大或減小，在蝕刻時易造成短路或斷線。 5．顯影 顯影是將沒有曝光的濕膜層部分除去得到所需 電路圖形的過程。嚴格控制顯影液的濃度（10-12g/l）、溫度(30-34℃)，顯影液濃度太高或太低都易造成顯影不凈。優(yōu)化顯影速度使其與曝光量匹配，經(jīng)常清洗噴嘴，讓噴嘴的壓力及分布一致。顯影時間過長或顯影溫度過高，會對濕膜表面造成劣化，在電鍍或酸性蝕刻時出現(xiàn)嚴重的滲度或側(cè)蝕，降低了圖形制作的精度要求。 6．蝕刻和去膜 蝕刻最終得到我們需要的 電路圖形，蝕刻液可以選用堿性三氯化鐵、酸性氯化銅和氨水。蝕刻時不同銅箔厚度要使用不同的蝕刻速度，蝕刻速度還要與蝕刻液的溫度、濃度匹配，經(jīng)常維護蝕刻機的噴嘴，保持壓力和噴液分布均勻，不然最后造成蝕可不均和邊緣起銅絲,影響PCB的品質(zhì)。去膜我公司采用4-7%的氫氧化鈉溶液在50-60℃進行，主要是氫氧化鈉使膜層膨脹再細分的過程，控制好參數(shù)孔內(nèi)的濕膜也能褪掉。我們在特殊的雙面板使用濕膜做圖形轉(zhuǎn)移達到了很好的效果。 | 
發(fā)表于 2013-4-2 14:46:46
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