芯片解密常見問題解答—芯片解密后失效分析的主要流程:
1、接受客戶不良品信息反饋及分析請(qǐng)求,并了解客戶相關(guān)信息。(指失效模式,參數(shù)值,客戶抱怨內(nèi)容,型號(hào),批號(hào),失效率,所占比例等,與正常品相比不同之處)
2、記錄各項(xiàng)信息內(nèi)容,以在長(zhǎng)期記錄中形成信息庫,為今后的分析工作提供經(jīng)驗(yàn)值。
3、收集工藝信息,包括與此產(chǎn)品有關(guān)的生產(chǎn)過程中的人,機(jī),料,法,環(huán)變動(dòng)的情況(老員工,新員工,班次,人員當(dāng)時(shí)的工作狀態(tài),機(jī)臺(tái)狀況,工夾具,所采用的原材料,工藝參數(shù)的變動(dòng),環(huán)境溫濕度的變動(dòng)等)。
通常有:裝片機(jī)號(hào),球焊機(jī)號(hào),包封機(jī)號(hào),后固化烘箱號(hào),去飛邊機(jī)號(hào),軟化線號(hào),是否二次軟化,測(cè)試機(jī)臺(tái),測(cè)試參數(shù),料餅品種型號(hào),引線條供應(yīng)者及批號(hào),金絲品種及型號(hào),供應(yīng)者等。
4、失效確認(rèn),可用測(cè)試機(jī)檢測(cè)功能、開短路,以確認(rèn)客戶反映情況是否屬實(shí)。
5、對(duì)于非開短路情況,如對(duì)于漏電流大的產(chǎn)品要徹底清洗(用冷熱純水或有機(jī)溶劑如丙酮)后再進(jìn)行下述烘烤試驗(yàn):125度烘烤24小時(shí)或175度烘烤4小時(shí)以上,烘箱關(guān)電源后門打開45度角緩慢冷卻1小時(shí)后再測(cè)其功能,如功能變好,則極有可能是封裝或者測(cè)試問題,對(duì)封裝工藝要嚴(yán)查。
6、對(duì)于開短路情況,觀察開短路測(cè)試值是開路還是短路,還是芯片不良,如是開路或短路,則要注意是第幾腳開路或短路,待開帽后用萬用表測(cè)量該腳所連的金絲的壓區(qū)與腳之間的電阻,以判斷該腳球焊是否虛焊。
7、對(duì)于大芯片薄形封裝產(chǎn)品要注意所用材料(如料餅,導(dǎo)電膠)是否確當(dāng),產(chǎn)品失效是否與應(yīng)力和濕氣有關(guān)(125度烘烤24小時(shí)或175度烘烤4小時(shí)以上,烘箱關(guān)電源后,門打開45度角緩慢冷卻1小時(shí)后再測(cè)其功能,如功能變好,則極有可能是封裝或者測(cè)試的問題,對(duì)封裝工藝要嚴(yán)查,如檢查去飛邊方式,浸酸時(shí)間等。)
8、80倍以上顯微鏡觀察產(chǎn)品外形特征,特別是樹脂休是否有破裂,裂縫,鼓泡膨脹。(注膠口,腳與腳之間樹脂體和導(dǎo)電物)
9、對(duì)所有失效樣品進(jìn)行X-RAY檢查,觀察金絲情況,并和布線圖相比較,以判斷布線是否錯(cuò)誤。如發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤要加抽產(chǎn)品確認(rèn)失效總數(shù)并及時(shí)反映相關(guān)信息給責(zé)任人。
10、C-SAM即SAT,觀察產(chǎn)品芯片分層情況。判斷規(guī)范另見。樣品數(shù)量為10只以內(nèi)/批。
11、開帽:對(duì)于漏電流大的產(chǎn)品采用機(jī)械方式即干開帽形式,其它情況用強(qiáng)酸即濕開帽形式。切開剖面觀察金絲情況,及金球情況,表面鋁線是否受傷,芯片是否有裂縫,光刻是否不良,是否中測(cè),芯片名是否與布線圖芯片名相符。樣品數(shù)量為5只/批。對(duì)于開短路和用不導(dǎo)電膠裝片的產(chǎn)品要用萬用表檢測(cè)芯片地線和基島之間電阻檢查裝片是否有問題。對(duì)于密間距產(chǎn)品要測(cè)量鋁線寬度,確認(rèn)所用材料(料餅,導(dǎo)電膠,金絲)是否確當(dāng)開帽后應(yīng)該再測(cè)試,根據(jù)結(jié)果進(jìn)一步分析。
12、腐球:觀察壓區(qū)硅層是否破裂,嚴(yán)重氧化(用王水或氫氧化鈉或氫氧化鉀),腐球時(shí)注意要腐透(金絲徹底脫離芯片或溶化掉),不能用細(xì)針去硬撥金絲以免造成人為壓區(qū)損壞。
13、開帽時(shí)勿碰壞金絲及芯片,對(duì)于同一客戶,同型號(hào),同擴(kuò)散批,同樣類型的失效產(chǎn)品涉及3個(gè)組裝批的,任抽一批最后對(duì)開帽產(chǎn)品進(jìn)行測(cè)試看是否會(huì)變好。以確認(rèn)是否是封裝問題。
14、對(duì)開帽后漏電流偏大的可以使用微光顯微鏡檢查。
15、對(duì)開帽后的芯片最好用SEM仔細(xì)檢查有無如微小缺陷、氧化層穿孔等缺點(diǎn)。
16、失效分析主要依照:EOS、ESD、封裝缺陷、芯片缺陷、CMOS閂鎖、設(shè)計(jì)缺陷、可靠性(如水汽進(jìn)入、沾污等)展開。
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